硫化钨靶材：适用于工业级镀膜，实验或研究级别用硫化钨靶材，电子，光电，军用，装饰，功能薄膜等。
一、主要用途：
适用于磁控溅射制备薄膜
二、适用领域：
1、适用溅射设备品牌：
A.适用设备：单靶溅射系统，双靶溅射系统，JC500型磁控溅射仪，DE300DL 磁控溅射系统
B.适用设备品牌：国产品牌：南光机器厂、北京仪器厂、金盛微纳、沈阳科仪、JK-LASKER、微电子所等品牌
2、常规尺寸：
1.直径：1英寸，2英寸，3英寸，4英寸，5英寸等不同直径
2.厚度：1mm，2mm，3mm，4mm等尺寸可定做
三、产品详情及价格：
| 货号 | 产品名称 | 规格 | 包装 | 数量 | 交期 | 备注 |
| WS2-T3023 | 二硫化钨 靶材(WS2) | 99.9% φ50.8*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| WS2-T3023B2 | 二硫化钨 靶材(WS2) | 99.9% φ50.8*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| WS2-T3033 | 二硫化钨 靶材(WS2) | 99.9% φ60*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| WS2-T3033B2 | 二硫化钨 靶材(WS2) | 99.9% φ60*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| WS2-T3053 | 二硫化钨 靶材(WS2) | 99.9% φ76.2*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| WS2-T3053B2 | 二硫化钨 靶材(WS2) | 99.9% φ76.2*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| WS2-T3043 | 二硫化钨 靶材(WS2) | 99.9% φ75*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| WS2-T3043B2 | 二硫化钨 靶材(WS2) | 99.9% φ75*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| WS2-T3083 | 二硫化钨 靶材(WS2) | 99.9% φ101.6*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| WS2-T3083B2 | 二硫化钨 靶材(WS2) | 99.9% φ101.6*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| WS2-ST3005 | 二硫化钨 靶材(WS2) | 99.9% 100*80*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| 更多规格、更多型号产品，可咨询客服电话 010-56073481。QQ：2380702353 QQ：2031869415 |
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