光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的化学物质，用于光刻工艺中，可通过光照实现图形转移，在芯片制造等领域至关重要。
| 类别 | 描述 |
| AZ系列 | 光刻胶型号：AZ5214,AZ4620,AZ6130等 适用光谱：g/h/i-line 厚度：1-30um 分辨率：1um 适用工艺：可用于深硅刻蚀 |
| SU-8系列 | 光刻胶型号：SU-8 10系列，20系列，30系列 适用光谱：g/h/i-line 厚度：0.1-400um 分辨率：0.5um 适用工艺：适合于高深宽比工艺，透明度高，垂直度好 |
| PI | 光刻胶型号：BL-301系列 适用光谱：g/h/i-line 厚度：4-15um 分辨率：8-10um 适用工艺：用于各种绝缘层工艺，固化温度最低可以达到200℃ |
| 电子束胶 | 光刻胶型号：HSQ Fox-15/16 电子束 适用光谱：100nm 厚度：350nm-810nm 适用工艺：分辨率最好的光刻胶，抗刻蚀 |
