蒂姆新材料

磁控溅射法广泛应用在VO2薄膜的制备中，靶材一般采用纯度很高的金属钒，本底真空度一般高于10-3Pa，在真空室内充入氧和氩气。溅射时，Ar+离子轰击V靶材溅射出V原子与O原子在基片表面结合并沉积下来，形成钒氧化物，制备的薄膜中一般都含有 V2O3、VO2、V2O5的钒氧化物，但通过调节氧分压、沉积温度和靶基间距，可制备高质量的 VO2薄膜。一、二氧化钒的特点高度均匀和连续的薄膜磁控溅射技术能...

尊敬的客户：您好！蛇年春节即将到来，蒂姆（北京）新材料科技有限公司全体员工在此诚挚感谢您长期以来的信任与支持！在新的一年里，我们会加倍努力，为您提供更好的产品与服务！根据国家法定节假日放假规定，结合我司实际情况，放假时间安排如下：春节放假时间：2025年01月25日至2月4日（共11天），2月5日上班。春节停发货安排：受快递、物流、天气等原因影响，我司于2024年1月23日暂停收、发货，开工...

在当今全球化的背景下，资源的可持续利用和供应链的责任管理成为了重要议题，负责任矿产倡议（RMI）应运而生。RMI旨在通过一系列的理念与实践，推动矿产资源行业的可持续发展，确保矿产的开采、加工和使用符合道德、环境和社会标准。核心理念·可持续发展：RMI强调矿产资源的开发和利用必须与环境保护相协调，以满足当代人的需求，同时不损害后代人满足其自身需求的能力。这意味着在矿产开采过程中，要尽量减少对生...

“ 2024国际新型功能材料与器件会议（2024International Conference on New Functional Materials and Devices，ICMD-2024）”排名不分先后，报告题目不作为最后报告顺序安排1 窄带隙有机受体光伏材料李永舫中国科学院院士中国科学院化学研究所2 A Holistic Approach of Developing Highly...

一、影响薄膜晶体结构的溅射温度在溅射制备薄膜的过程中，溅射源的温度会影响薄膜的晶体结构。实验表明，当溅射温度较低时，薄膜为非晶态或微晶态结构；当溅射温度升高时，晶体结构逐渐变得有序，甚至出现取向生长。此外，溅射温度还会影响薄膜的晶粒尺寸和晶粒形貌，从而影响薄膜的性能。二、影响薄膜成分的溅射温度在溅射制备薄膜的过程中，溅射源的温度还会影响薄膜的成分。随着溅射温度的升高，薄膜中金属元素的含量会逐...

磁控溅镀常用的温度1磁控溅镀概述磁控溅镀是一种常见的表面处理技术， 用于给材料表面镀上一层薄膜，可以用于制造各种装饰、防护、导电、光学、磁性等材料。它利用高速离子轰击靶材表面，使得靶材原子脱离并沉积在衬底上形成薄膜。其中的温度控制是重要的一步，下面我们来了解-下磁控溅镀常用的温度。2磁控溅镀常用的温度是多少?磁控溅镀的温度是影响薄膜的结构和性质的重要参数之一。通 常来说，不同的靶材和衬底需要...

2024年11月2日，第二届中国钙钛矿光电子产业联盟研讨会于华中科技大学武汉光电国家研究中心召开。产业联盟会长黄维院士、湖北省科技厅副厅长夏松、华中科技大学副校长高亮，以及来自京津冀国家技术创新中心、武汉东湖新技术开发区管理委员会、武汉市经济和信息化局、阜阳市工业和信息化局等相关单位领导和来自全国各地150余位专家学者、企业界及金融界代表参加了本次盛会。武汉光电国家研究中心教授韩宏伟主持开幕...

等离子处理前封装缺陷的分类封装缺陷主要包括引线变形、底座偏移、翘曲、芯片破裂、分层、空洞、不均匀封装、毛边、外来颗粒和不完全固化等。引线变形引线变形通常指塑封料流动过程中引起的引线位移或者变形，通常采用引线最大横向位移x与引线长度L之间的比值x/L来表示。引线弯曲可能会导致电器短路（特别是在高密度I/O器件封装中）。有时，弯曲产生的应力会导致键合点开裂或键合强度下降。影响引线键合的因素包括封...

玻璃光学镜片等离子清洗机 树脂镜片等离子清洁机 UV/IR镜片活化等离子清洗机利用能量转换技术，在一定真空负压的状态下，以电能将气体转化为活性极高的气体等离子体，气体等离子体能轻柔冲刷固体样品表面，引起分子结构的改变，从而达到对样品表面有机污染物进行超清洗，在极短时间内有机污染物就被外接真空泵彻底抽走，其清洗能力可以达到分子级。在一定条件下还能使样品表面特性发生改变。因采用气体作为清洗处理的...

氧含量对溅射过程的影响是多方面的，涉及溅射速率、薄膜质量以及溅射产物的组成。以下将从这几个方面进行详细探讨，以期为研究和工业应用提供指导。氧含量对溅射速率的影响氧化物靶材的溅射速率氧含量高的靶材往往会形成氧化物，这些氧化物的溅射速率通常低于纯金属靶材。这是因为氧化物的键能较高，导致溅射过程中能量转移效率降低。具体表现为：键能效应：氧化物键能较高，需要更多能量才能使氧化物分解并溅射出原子或分子...

一般来说，在体积相同的前提下，密度越大的金属越重。那么世界上密度最大的金属是什么？质量重的金属有哪些？下面为大家盘点密度最大的10种金属元素，包括锇、铱、铂、铼、镎、钚、钨、金等等，它们的密度均高于19.32g/cm3，其中锇的密度达到了22.59g/cm3，是世界上最重的金属，一起来了解下吧。1、锇 密度22.59g/cm³锇是目前已知的密度最大的金属，其密度为22.59g/cm³，相对原...

延展性最好的10种金属 金属延伸率排名前十 韧性最好的金属元素十大延展性最好的金属1、铂 延性最好的金属铂是延性最好的金属，其延伸率可达40%-50%，只需1克铂金，就可以拉成超过1英里(近2公里)长的细丝。加上纯铂还具有良好的高温抗氧化性和化学稳定性，易加工成形，因而主要用于珠宝首饰、抗癌药物、化工催化剂、铂电极、耐腐蚀器皿和特种合金。自然界中铂以游离态和化合态形式共同存在，常见的含铂矿物...

1、铑稀有金属相关产业链的无可替代性近些年最耀眼的金属，非“铑”莫属。铑之所以昂贵，是因为它在工业活动中起着无法替代的关键作用，素有“工业维生素”之称，同时稀有度较高，市场价值一路高涨。有资料显示，南非“铑”的产量全球最高，超过全球铑产量的80%。中国除了在二次回收中得到有限数量的铑外，几乎全部依赖进口。2016年铑的价格只有615美元/盎司，5年后上涨了三十几倍，2021年初已接近2300...

十大导热性最好的金属1、银 热导率429W/(m.k)纯银是一种美丽的银白色金属，具有很好的延展性，其导电性和导热性在所有的金属中都是最高的，电导率为6.3*10^7S/m，热导率为429W/(m.k)。所以银常用来制作灵敏度极高的物理仪器元件、电子电器材料、感光材料、化学化工材料，当然银最常见的用途还是用作首饰、装饰品、银器、餐具、敬贺礼品、奖章和纪念币，因此有“女人的金属”之美称。2、铜...

冲突矿产采购政策来自刚果民主共和国及其毗邻国家或地区的铌钽铁矿（钶钽铁矿）、锡石、黑钨矿和黄金或其衍生物，包括钽、锡、钨和钴，有时被反人类的武装团体开采和出售，以资助不公平的劳工做法或侵犯人权的行为。其中一些金属矿物或衍生品可能进入全球使用的产品供应链。我们不直接购买任何武装团体所控制的“冲突矿产”，包括金属：金、钽、钨、锡。但是由于我们的产品含有这几种金属物质，为了支持这一采购政策，我们将...

  根据国务院办公厅《关于2024年节假日安排的通知》精神，现将蒂姆新材料2024年中秋节放假安排通知如下：    9月15日至17日放假，共3天。    9月15日至9月17日放假，共3天。9月14日（星期六）正常上班。    蒂姆新材料携全体员工祝大家中秋快乐，阖家团圆！2024年9月12日 蒂姆（北京）新材料科技有限公司识别下方二维码·关注我们

半导体衬底的防漏电方法半导体衬底是半导体器件的重要组成部分，其主要作用是提供一个稳定的基底，支持和固定其他元件。在半导体器件的制造和应用过程中，防止漏电问题是一项关键任务。本文将探讨半导体衬底的防漏电方法。一、选择合适的材料半导体衬底的材料选择直接影响到器件的性能和可靠性。通常情况下，常用的半导体衬底材料包括硅、石英、蓝宝石等。这些材料具有良好的导电性能和绝缘性能，能够有效地防止漏电问题的发...

磁控溅射为什么要使用氩气一、磁控溅射的工作原理磁控溅射是一种利用高能离子轰击材料表面电离和抛掉表面原子的技术，通过离子轰击和溅射产生的薄膜材料在基底上形成薄膜的一种常见技术。在这种过程中，一个加热晶体中的金属或化合物被放置在真空室中，由高能离子由平衡的强磁场加速到该金属的表面，形成了一道金属薄膜。二、为什么需要用氩气？磁控溅射过程中，离子源表面有一个阳极和一个阴极。使用高电压发射电子，将氩气...

磁控溅射设备中气体的种类对效果的影响如何?磁控溅射是一种利用磁场加速和控制离子在真空中运动的电化学工艺，广泛应用于薄膜制备行业。而在磁控溅劾设备中，气体的种类对于薄膜制备效果有着重要的影响。下面将从气压、气体种类及其流量等方面入手，逐—探究气体种类对磁控溅射效果的影响。一、气压对效果的影响在磁控溅射过程中，气压是一个重要的参数。通常情况下，气压越低，离子的平均自由程越长，离子能够到达的地方越...

氧化镍靶材溅射参数氧化镍（Ni0）靶材是一种常见的用于溅射制备薄膜的材料，具有良好的化学稳定性和光电性能，被广泛应用于光伏、显示器件、传感器等领域。在溅射制备过程中，溅射参数的选择对薄膜性能和成膜率具有重要影响。本文将对氧化镍靶材溅射参数进行详细介绍。一、靶材制备和性能分析1．靶材制备氧化镍靶材通常采用粉末冶金法进行制备。制备工艺包括原料配比、混合、压制和烧结等步骤。在原料配比中，通常选用高...