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一般来说，在体积相同的前提下，密度越大的金属越重。那么世界上密度最大的金属是什么？质量重的金属有哪些？下面为大家盘点密度最大的10种金属元素，包括锇、铱、铂、铼、镎、钚、钨、金等等，它们的密度均高于19.32g/cm3，其中锇的密度达到了22.59g/cm3，是世界上最重的金属，一起来了解下吧。1、锇 密度22.59g/cm³锇是目前已知的密度最大的金属，其密度为22.59g/cm³，相对原...

延展性最好的10种金属 金属延伸率排名前十 韧性最好的金属元素十大延展性最好的金属1、铂 延性最好的金属铂是延性最好的金属，其延伸率可达40%-50%，只需1克铂金，就可以拉成超过1英里(近2公里)长的细丝。加上纯铂还具有良好的高温抗氧化性和化学稳定性，易加工成形，因而主要用于珠宝首饰、抗癌药物、化工催化剂、铂电极、耐腐蚀器皿和特种合金。自然界中铂以游离态和化合态形式共同存在，常见的含铂矿物...

1、铑稀有金属相关产业链的无可替代性近些年最耀眼的金属，非“铑”莫属。铑之所以昂贵，是因为它在工业活动中起着无法替代的关键作用，素有“工业维生素”之称，同时稀有度较高，市场价值一路高涨。有资料显示，南非“铑”的产量全球最高，超过全球铑产量的80%。中国除了在二次回收中得到有限数量的铑外，几乎全部依赖进口。2016年铑的价格只有615美元/盎司，5年后上涨了三十几倍，2021年初已接近2300...

十大导热性最好的金属1、银 热导率429W/(m.k)纯银是一种美丽的银白色金属，具有很好的延展性，其导电性和导热性在所有的金属中都是最高的，电导率为6.3*10^7S/m，热导率为429W/(m.k)。所以银常用来制作灵敏度极高的物理仪器元件、电子电器材料、感光材料、化学化工材料，当然银最常见的用途还是用作首饰、装饰品、银器、餐具、敬贺礼品、奖章和纪念币，因此有“女人的金属”之美称。2、铜...

磁控溅射为什么要使用氩气一、磁控溅射的工作原理磁控溅射是一种利用高能离子轰击材料表面电离和抛掉表面原子的技术，通过离子轰击和溅射产生的薄膜材料在基底上形成薄膜的一种常见技术。在这种过程中，一个加热晶体中的金属或化合物被放置在真空室中，由高能离子由平衡的强磁场加速到该金属的表面，形成了一道金属薄膜。二、为什么需要用氩气？磁控溅射过程中，离子源表面有一个阳极和一个阴极。使用高电压发射电子，将氩气...

磁控溅射设备中气体的种类对效果的影响如何?磁控溅射是一种利用磁场加速和控制离子在真空中运动的电化学工艺，广泛应用于薄膜制备行业。而在磁控溅劾设备中，气体的种类对于薄膜制备效果有着重要的影响。下面将从气压、气体种类及其流量等方面入手，逐—探究气体种类对磁控溅射效果的影响。一、气压对效果的影响在磁控溅射过程中，气压是一个重要的参数。通常情况下，气压越低，离子的平均自由程越长，离子能够到达的地方越...

氧化镍靶材溅射参数氧化镍（Ni0）靶材是一种常见的用于溅射制备薄膜的材料，具有良好的化学稳定性和光电性能，被广泛应用于光伏、显示器件、传感器等领域。在溅射制备过程中，溅射参数的选择对薄膜性能和成膜率具有重要影响。本文将对氧化镍靶材溅射参数进行详细介绍。一、靶材制备和性能分析1．靶材制备氧化镍靶材通常采用粉末冶金法进行制备。制备工艺包括原料配比、混合、压制和烧结等步骤。在原料配比中，通常选用高...

半导体溅射是一种利用高能粒子轰击半导体材料表面，使其原子或分子脱离并沉积在其他材料表面的技术。在半导体制造过程中，半导体溅射技术的应用非常广泛，其中最常见的应用是在集成电路制造中，通过半导体溅射技术，可以制造出金属膜、氧化物膜等材料，这些材料可以用于制造电容器、电感器、电阻器等元件。此外，半导体溅射技术还可以用于制造太阳能电池、LED等光电器件。半导体溅射是一种利用高能粒子轰击半导体材料表面...

溅射过程中氮气和氩气的分压应该如何控制在溅射过程中，氮气和氩气的分压需要根据材料的特性和膜的要求进行控制，通常使用比例计算来确定分压比例。一、溅射过程中氮气和氩气的作用在溅射过程中，氮气和氩气是两种常用的惰性气体，主要作用是控制膜的质量和性能。其中，氮气通常用于氮化处理，可以在膜表面形成一层硬度更高的氮化物，增强膜的耐磨性和耐腐蚀性；而氩气则被用作氧化处理，可以增强膜的透过性和抗反射性。二、...

理解溅射镀膜速率的决定因素：靶材、气体与能量的作用1. 影响溅射镀膜速率的关键因素A. 影响因素综述靶材特性材料种类：不同材料的原子结构、键能和原子质量对溅射速率有显著影响。例如，金属靶材通常具有较高的溅射速率，而陶瓷靶材由于其高硬度和低溅射产额，溅射速率较低。原子质量与键能：较高的原子质量和键能会降低溅射速率，因为更大的能量输入需要打破原子间的键。溅射气体类型与压力气体种类：常用的溅射气体...

溅射镀膜的工作气体选择指南 一、溅射镀膜的基本原理溅射镀膜是一种物理气相沉积（PVD）技术，其基本原理是利用高能粒子轰击靶材表面，使靶材表面的原子或分子被激发并从靶材表面飞出，沉积在基材表面形成薄膜。溅射镀膜具有沉积速度快、附着力强、可控性高等优点，被广泛应用于电子、光学、装饰等领域。二、工作气体的作用在溅射镀膜过程中，工作气体起着至关重要的作用。其主要作用包括以下几点：1. 维持等离子体：...

经常有人问我们可以做什么靶材?其实能做的靶材多了，我们也很难一次说完~为了大家更好的了解我们的产品，我们会根据靶材的难易程度，整理出对应的清单，大家可以根据需要来选择哦~难制备、复杂、掺杂的靶材清单如下：蒂姆（北京）新材料科技有限公司货号产品名称规格包装AgSbTe2-T40S63银锑碲 靶材(AgSbTe2)99.99% φ30*3mm1片AgSbTe2-T40S63B2银锑碲 靶材(Ag...

锗的应用简介锗是重要的半导体材料，在半导体、航空航天测控、核物理探测、光纤通讯、红外光学、太阳能电池、化学催化剂、生物医学等领域都有广泛而重要的应用。根据美国地质调查局数据显示(2015)全球锗终端用户所占比例如下：纤维光纤30%；红外光纤20%；聚合催化剂20%；电子和太阳能器件15%和其他(荧光粉、冶金、和化疗)15%。光纤掺锗光纤具有容量大、光损小、色散低、传输距离长及不受环境干扰等优...

真空设备检漏注意事项一、真空设备设计中的注意事项1、根据设备的工艺要求，确定真空设备的总的最大允许漏率，并依据这一总漏率确定各组成部件的最大允许漏率。　　2、根据设备的最大允许漏率等指标，在设计阶段就初步确定将要采用的检漏方法，并将其作为指导调试验收的基本原则之一。　　3、根据设备或部件的最大允许漏率指标，决定设备的密封、连接方式和总体加工精度，以及何种动密封形式能够满足要求。如，法兰采用金...

铂又称白金，价格比黄金贵，由于它有许多优良的性质，尽管出现了各种代用品，但许多分析工作仍然离不开铂。铂的熔点高达1774℃，化学性质稳定，在空气中灼烧后不起化学变化，也不吸收水分，大多数化学试剂对它无侵蚀作用，耐氢氟酸性能好，能耐熔融的碱金属的碳酸盐。因而常用于沉淀灼烧称重、氢氟酸溶样以及碳酸盐的熔融处理。铂坩埚适用于灼烧沉淀。铂制小舟、铂丝圈用于有机分析灼样品。铂丝、铂片常用于电化学分析中...

(一) 铂坩埚1、铂是一种贵重金属，焙点约为1770度，质软，使用时不要用手捏，以防变形。也不能用玻璃棒捣刮铂坩埚内壁，以防损伤。也不要将红热的铂坩埚放人冷水中骤冷。2、铂坩埚的加热和灼烧，均应在垫有石棉板或陶瓷板的电炉或电热板上进行，或在煤气灯的氧化焰上进行，不能与电炉丝、铁板及还原焰接触，因为在高温下铁易与铂形成合金，还原性气体能与铂形成碳化铂，使铂坩埚变脆。滤纸如在铂坩埚中灼烷，应在低...

一、 天平的称量方法1、 直接称量法：对一些在空气中无吸湿性的试样或试剂如金属或合金等，可用直接法称量。称量时将表面皿或其他称量容器放于秤盘中央，去皮，然后将试样置于称量容器中，即得到试样的质量。2、 固定质量称量法：分析实验中为准确称取某一指定质量的试样，可用固定质量法称量。称量时将表面皿或其他称量容器放于秤盘中央，去皮，然后用药勺盛试样（试样一般要预先研细），在容器上方轻轻振动，使试样徐...

石墨坩埚虽然具有体积密度高、耐高温、传热快、耐酸碱腐蚀、耐高温、耐氧化等特点，但对于单个原料的精炼来说，使用坩埚后的清洗工作非常麻烦。清洁石墨坩埚的首要任务是清除坩埚中的化学物质，然后进行清洁。我们需要根据石墨坩埚中残留的物质来决定要清洗什么。1.一般来说，石墨坩埚上的粘合剂是无机燃烧的残留物。我们可以用盐酸清洗，其中大部分是可溶的，有些含碳的残渣不能用盐酸溶解。硝酸氧化性强，清洗时可适当加...

氮化硼陶瓷坩埚真空下使用温度1800度，气氛保护下使用温度2100度。氮气或者氩气气氛使用最佳，寿命最长。氮化硼坩埚抗热震强，1500度急冷不开裂，1000度炉内保温20分钟取出来吹风急冷连续反复上百次不会开裂。 使用注意事项：1 空气中使用温度不能超过1000度，超过1000度氮化硼与氧气接触表面会氧化剥落。2 氮化硼易吸潮，坩埚不能存放潮湿区域，不能水洗，可直接用砂纸擦除或者用酒精擦洗。...

蒸发源是用来加热膜材使之气化蒸发的装置。目前所用的蒸发源主要有电阻加热，电子束加热，感应加热，电弧加热和激光加热等多种形式。电阻加热式蒸发源的发热材料一般选用W、Mo、Ta、Nb等高熔点金属，Ni、Ni-Cr合金。把它们加工成各种合适的形状，在其上盛装待蒸发的膜材。一般采用大电流通过蒸发源使之发热，对膜材直接加热蒸发，或把膜材放入石墨及某些耐高温的金属氧化物（如Al2O3，BeO）等材料制成...