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磁控溅射法广泛应用在VO2薄膜的制备中，靶材一般采用纯度很高的金属钒，本底真空度一般高于10-3Pa，在真空室内充入氧和氩气。溅射时，Ar+离子轰击V靶材溅射出V原子与O原子在基片表面结合并沉积下来，形成钒氧化物，制备的薄膜中一般都含有 V2O3、VO2、V2O5的钒氧化物，但通过调节氧分压、沉积温度和靶基间距，可制备高质量的 VO2薄膜。一、二氧化钒的特点高度均匀和连续的薄膜磁控溅射技术能...

一、影响薄膜晶体结构的溅射温度在溅射制备薄膜的过程中，溅射源的温度会影响薄膜的晶体结构。实验表明，当溅射温度较低时，薄膜为非晶态或微晶态结构；当溅射温度升高时，晶体结构逐渐变得有序，甚至出现取向生长。此外，溅射温度还会影响薄膜的晶粒尺寸和晶粒形貌，从而影响薄膜的性能。二、影响薄膜成分的溅射温度在溅射制备薄膜的过程中，溅射源的温度还会影响薄膜的成分。随着溅射温度的升高，薄膜中金属元素的含量会逐...

磁控溅镀常用的温度1磁控溅镀概述磁控溅镀是一种常见的表面处理技术， 用于给材料表面镀上一层薄膜，可以用于制造各种装饰、防护、导电、光学、磁性等材料。它利用高速离子轰击靶材表面，使得靶材原子脱离并沉积在衬底上形成薄膜。其中的温度控制是重要的一步，下面我们来了解-下磁控溅镀常用的温度。2磁控溅镀常用的温度是多少?磁控溅镀的温度是影响薄膜的结构和性质的重要参数之一。通 常来说，不同的靶材和衬底需要...

等离子处理前封装缺陷的分类封装缺陷主要包括引线变形、底座偏移、翘曲、芯片破裂、分层、空洞、不均匀封装、毛边、外来颗粒和不完全固化等。引线变形引线变形通常指塑封料流动过程中引起的引线位移或者变形，通常采用引线最大横向位移x与引线长度L之间的比值x/L来表示。引线弯曲可能会导致电器短路（特别是在高密度I/O器件封装中）。有时，弯曲产生的应力会导致键合点开裂或键合强度下降。影响引线键合的因素包括封...

玻璃光学镜片等离子清洗机 树脂镜片等离子清洁机 UV/IR镜片活化等离子清洗机利用能量转换技术，在一定真空负压的状态下，以电能将气体转化为活性极高的气体等离子体，气体等离子体能轻柔冲刷固体样品表面，引起分子结构的改变，从而达到对样品表面有机污染物进行超清洗，在极短时间内有机污染物就被外接真空泵彻底抽走，其清洗能力可以达到分子级。在一定条件下还能使样品表面特性发生改变。因采用气体作为清洗处理的...

一、介绍磁控溅射磁控溅射是一种利用高速离子轰击靶材产生的金属粒子进行表面处理的技术，可以在材料表面形成一层薄膜，应用广泛。在磁控溅射过程中，磁场用来控制离子轰击靶材的方向和能量，气体则用来维持离子产生过程。二、常用的磁控溅射气体1.惰性气体惰性气体包括氩、氦、氖、氙等。这些气体具有化学不活性，气态稳定性好，善于产生精细的纳米颗粒。其中氩气是最常用的磁控溅射气体，因为其具有丰富的气态谱线和良好...

陶瓷与金属的连接件广泛应用于半导体封装、IGBT模块、新能源汽车和电子电气等领域。因陶瓷材料的种类不同，选择的金属封接方式也有所差异。目前 ， 国内常见的陶瓷基板材料有Al2O3、AlN 和Si3N4，三种基板的重要性能参数如下：Al2O3、AlN 和 Si3N4 陶瓷基板性能参数对于Al2O3陶瓷基板主要采用直接覆铜工艺，AlN陶瓷基板可采用DBC或AMB工艺，Si3N4 陶瓷基板在生产中...

磁控溅射钛靶材会不会烧红？原因和解决对策是什么？磁控溅射钛靶材是一种重要的薄膜材料，它可以在真空条件下通过电弧或高能离子轰击的方式将固态材料制备成薄膜，应用于电子、光电等领域。在磁控溅射制备中，钛靶材是常用的材料之一。一、磁控溅射钛靶材会不会烧红？在磁控溅射制备过程中，钛靶材吸收高能离子后会产生热量，这可能导致钛靶材烧红的问题。一些实验结果表明，在制备过程中，钛靶材表面温度较高时可能会出现烧...

可以用来制备ITO薄膜的成膜技术很多，如磁控溅射沉积 、真空蒸发沉积和溶胶- 凝胶( Sol -Gel)法等。1 磁控溅射沉积磁控溅射沉积可分为直流磁控溅射沉积和射频磁控溅射沉积。直流磁控溅射是目前应用较广的镀膜方法，一般使用导电铟锡合金靶，溅射室抽真空后除了要通入惰性气体Ar ，还要通入反应气体O2 。溅射的基本过程：靶材是需要溅射的材料作为阴极，作为阳极的衬底加有数千伏的电压。在对系统预...

1、氧化铝基本性能参数2、镀氧化铝膜的特点3、镀氧化铝膜的方法 镀氧化铝膜的方法主要分为物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD），其中物理气相沉积主要有蒸镀法和磁控溅射法，蒸镀法根据加热方式不同分为电阻加热、高频感应加热和电子束加热三种，其中电阻加热的温度可达1600℃，而电子束和高频感应加热可达3000℃。磁控溅射法相比于蒸镀法，其膜层与基材结合力强、膜层致密性及均匀性好。化学气相沉...

真空镀铝膜性能指标及厚度测量方法一、镀铝膜厚度测量方法镀铝膜厚度测量一般采用下述三种方法。第一种是光密度法，以光线透过镀铝膜的密度来衡量。用光密度计量镀铝层厚度的优点是方便、准确，测量结果不易受表面氧化层的影响。光密度值与入射光波长有关。第二种是采用表面方块电阻测量。此法简单实用，一般铝层厚度对应的表面电阻一般在1~2。取样或宽1cm长，10cm的电阻值在1~20之间。镀膜刚下卷时，铝层表面...

说到显示技术，大家最熟悉的可能还是LCD和LED液晶显示屏，但若您现在再去商城采购，会发现OLED（有机发光二极管）显示技术已经成为了新的主流。OLED技术是指有机半导体材料和发光材料在电场驱动下，通过载流子注入和复合导致发光的现象。作为一种固态自发光技术，OLED不需要以前用LCD搭配LED背光源的组合，因此可以将电视厚度做得很薄，可视角度更广、功耗更低、色彩也更丰富，并且可以在塑料、树脂...

用粘附性判定标准值判断薄膜粘附性好坏的一种方法与流程本发明属于超声表面波无损检测领域，涉及一种薄膜粘附性好坏的判定方法。背景技术：薄膜科学在微电子领域有着重要的应用。Low-k互连是高速超大规模集成(ULSI)电路发展中的一个重要理念，由于其可以减少互连延迟，串扰以及电路的能量损耗。在low-k薄膜的各项特性中，界面粘附性是一个非常重要的特性，它显著地影响了互连系统的稳定性和可靠性。在薄膜的...

ITO 是Indium Tin Oxides的缩写，即掺锡氧化铟。是透明导电氧化物TCOs的一种，由于最好的导电性和透明性的组合性能，成为最主要的透明导电材料，主要应用于液晶显示器，触摸屏，太阳能薄膜电池，照明用有机EL元件等领域。氧化铟，只吸收紫外光，不吸收可见光，因此达到“透明”的表现。掺锡，虽然会损失透光度，但可以提高导电能力。因此，透光度和导电性是两个相互牵制的指标。　　ITO原料，...

ITO薄膜制作过程中的影响因素 作者：陈长增

说到ITO真空镀膜机镀制ITO薄膜，可能大家不知道是什么东西，如果说手机屏幕上面有一层透视的触摸屏，大家就会恍然大悟，我们现在日常使用的手机，上面都用一种ITO薄膜材料，即实现了透视的效果，也实现了触屏的效果。近些年，手机更新换代，使用广泛，几乎人手一台，ITO薄膜可以说消耗量也是巨大的。今天小编要为大家讲的是ITO真空镀膜机薄膜制作的影响因素：ITO真空镀膜机镀制ITO薄膜在溅镀过程中会产...

膜厚均匀度是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要指标。为提高膜厚均匀度，可以采取优化靶基距、改变基片运动方式、增加挡板机构和膜厚监控仪等措施。对于磁控溅射镀膜，由于其电磁场并非均匀，尤其是不均匀的磁场分布造成不均匀的等离子密度，导致靶原子的...

1、等离子体增强化学气相沉积的主要过程         等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术是借助于辉光放电等离子体使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。由于PECVD技术是通过应气体放电来制备...

脉冲磁控溅射是采用矩形波电压的脉冲电源代替传统直流电源进行磁控溅射沉积。脉冲磁控溅射技术可以有效的抑制电弧产生进而消除由此产生的薄膜缺陷，同时可以提高溅射沉积速率，降低沉积温度等一系列显著优点。         脉冲可分为双向脉冲和单向脉冲...

溅射铝膜的结构分析用X-PertProMPP型X射线粉末衍射仪对制备的AL膜微结构进行测试分析。X光管为Cu靶,CuKa射线波长为0.154056 nm,管压为40kV,管流为40mA,采用连续扫描方式,扫描范围2θ为5°～90°。图3 是...