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陶瓷与金属的连接件广泛应用于半导体封装、IGBT模块、新能源汽车和电子电气等领域。因陶瓷材料的种类不同,选择的金属封接方式也有所差异。目前 , 国内常见的陶瓷基板材料有Al2O3、AlN 和Si3N4,三种基板的重要性能参数如下:Al2O3、AlN 和 Si3N4 陶瓷基板性能参数对于Al2O3陶瓷基板主要采用直接覆铜工艺,AlN陶瓷基板可采用DBC或AMB工艺,Si3N4 陶瓷基板在生产中...

经常有人问我们可以做什么靶材?其实能做的靶材多了,我们也很难一次说完~为了大家更好的了解我们的产品,我们会根据靶材的难易程度,整理出对应的清单,大家可以根据需要来选择哦~难制备、复杂、掺杂的靶材清单如下:蒂姆(北京)新材料科技有限公司货号产品名称规格包装AgSbTe2-T40S63银锑碲 靶材(AgSbTe2)99.99% φ30*3mm1片AgSbTe2-T40S63B2银锑碲 靶材(Ag...

磁控溅射生成的薄膜厚度的均匀性是成膜性质的一项重要指标,因此有必要研究影响磁控溅射均匀性的因素,以更好的实现磁控溅射均匀镀膜。简单的说磁控溅射就是在正交的电磁场中,闭合的磁场束缚电子围绕靶面做螺线运动,在运动过程中不断撞击工作气体氩气电离出大量的氩离子,氩离子在电场作用下加速轰击靶材,溅射出呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。所以要实现均匀的镀膜,就需要均匀的溅射出靶原子(或分子),这...

喷丸喷丸即使用丸粒轰击工件表面并植入残余压应力,提升工件疲劳强度的冷加工工艺。喷丸处理后,工件表面污物被清除掉,工件表面不被破坏,表面积有所增加。由于加工过程中,工件表面没有被破坏,加工时产生的多余能量就会引起工件基体的表面强化。利用高速旋转的叶轮把小钢丸或者小铁丸抛掷出去高速撞击零件表面,故可以除去零件表面的氧化层。喷砂喷砂是利用高速砂流的冲击作用清理和粗化基体表面的过程,即采用压缩空气为...

1.紫外分光光谱UV分析原理:吸收紫外光能量,引起分子中电子能级的跃迁谱图的表示方法:相对吸收光能量随吸收光波长的变化提供的信息:吸收峰的位置、强度和形状,提供分子中不同电子结构的信息物质分子吸收一定的波长的紫外光时,分子中的价电子从低能级跃迁到高能级而产生的吸收光谱较紫外光谱。紫光吸收光谱主要用于测定共轭分子、组分及平衡常数。光线传输光衍射探测数据输出2.红外吸收光谱法IR分析原理:吸收红...

薄膜沉积是半导体制造工艺中的一个非常重要的技术,其是一连串涉及原子的吸附、吸附原子在表面扩散及在适当的位置下聚结,以渐渐形成薄膜并成长的过程。在一个新晶圆投资建设中,晶圆厂80%的投资用于购买设备。其中,薄膜沉积设备是晶圆制造的核心步骤之一,占据着约25%的比重。薄膜沉积工艺主要分为物理气相沉积和化学气相沉积两类。物理气相沉积(Physical Vapour Deposition,PVD)技...

薄膜沉积是半导体制造工艺中的一个非常重要的技术,其是一连串涉及原子的吸附、吸附原子在表面扩散及在适当的位置下聚结,以渐渐形成薄膜并成长的过程。在一个新晶圆投资建设中,晶圆厂80%的投资用于购买设备。其中,薄膜沉积设备是晶圆制造的核心步骤之一,占据着约25%的比重。薄膜沉积工艺主要分为物理气相沉积和化学气相沉积两类。物理气相沉积(Physical Vapour Deposition,PVD)技...

磁控溅射钛靶材会不会烧红?原因和解决对策是什么?磁控溅射钛靶材是一种重要的薄膜材料,它可以在真空条件下通过电弧或高能离子轰击的方式将固态材料制备成薄膜,应用于电子、光电等领域。在磁控溅射制备中,钛靶材是常用的材料之一。一、磁控溅射钛靶材会不会烧红?在磁控溅射制备过程中,钛靶材吸收高能离子后会产生热量,这可能导致钛靶材烧红的问题。一些实验结果表明,在制备过程中,钛靶材表面温度较高时可能会出现烧...

脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,简称PLD),是一种利用激光对靶材进行轰击,将轰击出来的等离子体沉积在衬底上,进行薄膜生长的技术。 原理    在靶材表面,在足够高的能量密度下和足够短的脉冲时间内,靶材吸收激光能量并使光斑处的温度迅速升高至靶材的蒸发温度以上,使靶材蒸发为区域化的高温高密度等离子体,在激光束的继续作用下,等离子体的温度和压力迅速升高,进而轰击基...

res2-wse2-type-ii-heterojunction-phototransitors-with-integrated-van-der-waals-electrodes-to-achieve论文链接:https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acsaelm.3c00908以下论文中使用的金颗粒、蒸镀用的钨舟为蒂姆(北京)新材料科技有限公司供应,欢迎大家参考实...

Highly sensitive plasmonic sensing based on a topological insulator nanoparticle论文链接:https://pubs.rsc.org/en/content/articlelanding/2023/nr/d3nr04741e注:论文中所用化合物靶材出自蒂姆(北京)新材料科技有限公司。以下为用我司产品进行实验获得实验成...

溅射气压对磁控溅射成膜性能的影响郑建潮   浙江大学信电系在直流磁控溅射过程中, 溅射气压( 工作气压)是一个很重要的参数, 它对溅射速率, 沉积速率以及薄膜的质量都有很大的影响。气体分子从一次碰撞到相邻的下一次碰撞所通过的距离的统计平均值, 称之为平均自由程。从分子的平均自由程的角度来说, 溅射气体压力低时溅射粒子的平均自由程大, 与气体离子的碰撞的几率小, 使沉积速率增大。但是, 溅射气...

可以用来制备ITO薄膜的成膜技术很多,如磁控溅射沉积 、真空蒸发沉积和溶胶- 凝胶( Sol -Gel)法等。1 磁控溅射沉积磁控溅射沉积可分为直流磁控溅射沉积和射频磁控溅射沉积。直流磁控溅射是目前应用较广的镀膜方法,一般使用导电铟锡合金靶,溅射室抽真空后除了要通入惰性气体Ar ,还要通入反应气体O2 。溅射的基本过程:靶材是需要溅射的材料作为阴极,作为阳极的衬底加有数千伏的电压。在对系统预...

【编者按】壮大战略性新兴产业是经济高质量发展的动力引擎。站在2023年的新起点,澎湃园区恳谈会推出新春特辑“浪尖2023”,五问经济学家、产业专家、企业高管、投资人,寻求元宇宙、芯片、光刻机、氢能、自动驾驶、机器人、脑机接口、创新药等产业的突破点。 傅小凡 制图澎湃新闻:您认为2022年中国芯片产业最热的关键词有哪些?傅志伟:我觉得有这样几个关键词,应该也是行业里的普遍共识,第一个是“直面打...

【编者按】壮大战略性新兴产业是经济高质量发展的动力引擎。站在2023年的新起点,澎湃园区恳谈会推出新春特辑“浪尖2023”,五问经济学家、产业专家、企业高管、投资人,寻求元宇宙、芯片、光刻机、氢能、自动驾驶、机器人、脑机接口、创新药等产业的突破点。 傅小凡 制图澎湃新闻:您认为2022年中国芯片行业中最热的关键词有哪些?景昕:对于我们这个行业来讲,我第一个想到的关键词是“对外合作”。疫情三年...

2022年已经过去,回看过去的一年,芯片行业的发展并不平静!一边是美国公布《芯片法案》,台积电赴美建厂,另一边也传来消息,中国正在为国内的半导体行业制定超过1万亿人民币的支持计划;一边是各大媒体纷纷报道华为麒麟芯片库存殆尽;另一边华为要造光刻机的消息声势浩大,还有蔚来组建300人团队自研芯片等消息层出不穷。在铺天盖地的网络消息之下,“国家会不会放弃芯片的发展?”“芯片行业寒冬来了吗” “中国...

癸卯兔年已拉开序幕。对于自主汽车芯片行业来讲,新的一年将迎来智能化竞争的“赛点”。如今,随着整车电子电气架构的集中化,汽车芯片功能越来越复杂,分类也越来越细化,不同功能、不同种类的产品开始呈现多样发展态势。再加上碳化硅等新材料及新技术的推广,相信2023年自主汽车芯片产业将精彩纷呈。1摩尔定律或将延续 芯片良率有待提高作为底层基石,芯片的先进性在一定程度上决定了汽车的智能化程度。在汽车电动化...

转自:前瞻产业研究院行业主要上市公司:宏微科技(93.410, -3.49, -3.60%)(688711);斯达半导(327.950, 3.98, 1.23%)(603290);华润微(56.620, 0.40, 0.71%)(688396);时代电气(56.820, 0.03, 0.05%)(688187);士兰微(36.390, 0.41, 1.14%)(600460);比亚迪(302...

1、氧化铝基本性能参数2、镀氧化铝膜的特点3、镀氧化铝膜的方法 镀氧化铝膜的方法主要分为物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD),其中物理气相沉积主要有蒸镀法和磁控溅射法,蒸镀法根据加热方式不同分为电阻加热、高频感应加热和电子束加热三种,其中电阻加热的温度可达1600℃,而电子束和高频感应加热可达3000℃。磁控溅射法相比于蒸镀法,其膜层与基材结合力强、膜层致密性及均匀性好。化学气相沉...

锗的应用简介锗是重要的半导体材料,在半导体、航空航天测控、核物理探测、光纤通讯、红外光学、太阳能电池、化学催化剂、生物医学等领域都有广泛而重要的应用。根据美国地质调查局数据显示(2015)全球锗终端用户所占比例如下:纤维光纤30%;红外光纤20%;聚合催化剂20%;电子和太阳能器件15%和其他(荧光粉、冶金、和化疗)15%。光纤掺锗光纤具有容量大、光损小、色散低、传输距离长及不受环境干扰等优...

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