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磁控溅射法广泛应用在VO2薄膜的制备中，靶材一般采用纯度很高的金属钒，本底真空度一般高于10-3Pa，在真空室内充入氧和氩气。溅射时，Ar+离子轰击V靶材溅射出V原子与O原子在基片表面结合并沉积下来，形成钒氧化物，制备的薄膜中一般都含有 V2O3、VO2、V2O5的钒氧化物，但通过调节氧分压、沉积温度和靶基间距，可制备高质量的 VO2薄膜。一、二氧化钒的特点高度均匀和连续的薄膜磁控溅射技术能...

一、影响薄膜晶体结构的溅射温度在溅射制备薄膜的过程中，溅射源的温度会影响薄膜的晶体结构。实验表明，当溅射温度较低时，薄膜为非晶态或微晶态结构；当溅射温度升高时，晶体结构逐渐变得有序，甚至出现取向生长。此外，溅射温度还会影响薄膜的晶粒尺寸和晶粒形貌，从而影响薄膜的性能。二、影响薄膜成分的溅射温度在溅射制备薄膜的过程中，溅射源的温度还会影响薄膜的成分。随着溅射温度的升高，薄膜中金属元素的含量会逐...

磁控溅镀常用的温度1磁控溅镀概述磁控溅镀是一种常见的表面处理技术， 用于给材料表面镀上一层薄膜，可以用于制造各种装饰、防护、导电、光学、磁性等材料。它利用高速离子轰击靶材表面，使得靶材原子脱离并沉积在衬底上形成薄膜。其中的温度控制是重要的一步，下面我们来了解-下磁控溅镀常用的温度。2磁控溅镀常用的温度是多少?磁控溅镀的温度是影响薄膜的结构和性质的重要参数之一。通 常来说，不同的靶材和衬底需要...

等离子处理前封装缺陷的分类封装缺陷主要包括引线变形、底座偏移、翘曲、芯片破裂、分层、空洞、不均匀封装、毛边、外来颗粒和不完全固化等。引线变形引线变形通常指塑封料流动过程中引起的引线位移或者变形，通常采用引线最大横向位移x与引线长度L之间的比值x/L来表示。引线弯曲可能会导致电器短路（特别是在高密度I/O器件封装中）。有时，弯曲产生的应力会导致键合点开裂或键合强度下降。影响引线键合的因素包括封...

玻璃光学镜片等离子清洗机 树脂镜片等离子清洁机 UV/IR镜片活化等离子清洗机利用能量转换技术，在一定真空负压的状态下，以电能将气体转化为活性极高的气体等离子体，气体等离子体能轻柔冲刷固体样品表面，引起分子结构的改变，从而达到对样品表面有机污染物进行超清洗，在极短时间内有机污染物就被外接真空泵彻底抽走，其清洗能力可以达到分子级。在一定条件下还能使样品表面特性发生改变。因采用气体作为清洗处理的...

一般来说，在体积相同的前提下，密度越大的金属越重。那么世界上密度最大的金属是什么？质量重的金属有哪些？下面为大家盘点密度最大的10种金属元素，包括锇、铱、铂、铼、镎、钚、钨、金等等，它们的密度均高于19.32g/cm3，其中锇的密度达到了22.59g/cm3，是世界上最重的金属，一起来了解下吧。1、锇 密度22.59g/cm³锇是目前已知的密度最大的金属，其密度为22.59g/cm³，相对原...

延展性最好的10种金属 金属延伸率排名前十 韧性最好的金属元素十大延展性最好的金属1、铂 延性最好的金属铂是延性最好的金属，其延伸率可达40%-50%，只需1克铂金，就可以拉成超过1英里(近2公里)长的细丝。加上纯铂还具有良好的高温抗氧化性和化学稳定性，易加工成形，因而主要用于珠宝首饰、抗癌药物、化工催化剂、铂电极、耐腐蚀器皿和特种合金。自然界中铂以游离态和化合态形式共同存在，常见的含铂矿物...

1、铑稀有金属相关产业链的无可替代性近些年最耀眼的金属，非“铑”莫属。铑之所以昂贵，是因为它在工业活动中起着无法替代的关键作用，素有“工业维生素”之称，同时稀有度较高，市场价值一路高涨。有资料显示，南非“铑”的产量全球最高，超过全球铑产量的80%。中国除了在二次回收中得到有限数量的铑外，几乎全部依赖进口。2016年铑的价格只有615美元/盎司，5年后上涨了三十几倍，2021年初已接近2300...

十大导热性最好的金属1、银 热导率429W/(m.k)纯银是一种美丽的银白色金属，具有很好的延展性，其导电性和导热性在所有的金属中都是最高的，电导率为6.3*10^7S/m，热导率为429W/(m.k)。所以银常用来制作灵敏度极高的物理仪器元件、电子电器材料、感光材料、化学化工材料，当然银最常见的用途还是用作首饰、装饰品、银器、餐具、敬贺礼品、奖章和纪念币，因此有“女人的金属”之美称。2、铜...

半导体衬底的防漏电方法半导体衬底是半导体器件的重要组成部分，其主要作用是提供一个稳定的基底，支持和固定其他元件。在半导体器件的制造和应用过程中，防止漏电问题是一项关键任务。本文将探讨半导体衬底的防漏电方法。一、选择合适的材料半导体衬底的材料选择直接影响到器件的性能和可靠性。通常情况下，常用的半导体衬底材料包括硅、石英、蓝宝石等。这些材料具有良好的导电性能和绝缘性能，能够有效地防止漏电问题的发...

磁控溅射为什么要使用氩气一、磁控溅射的工作原理磁控溅射是一种利用高能离子轰击材料表面电离和抛掉表面原子的技术，通过离子轰击和溅射产生的薄膜材料在基底上形成薄膜的一种常见技术。在这种过程中，一个加热晶体中的金属或化合物被放置在真空室中，由高能离子由平衡的强磁场加速到该金属的表面，形成了一道金属薄膜。二、为什么需要用氩气？磁控溅射过程中，离子源表面有一个阳极和一个阴极。使用高电压发射电子，将氩气...

磁控溅射设备中气体的种类对效果的影响如何?磁控溅射是一种利用磁场加速和控制离子在真空中运动的电化学工艺，广泛应用于薄膜制备行业。而在磁控溅劾设备中，气体的种类对于薄膜制备效果有着重要的影响。下面将从气压、气体种类及其流量等方面入手，逐—探究气体种类对磁控溅射效果的影响。一、气压对效果的影响在磁控溅射过程中，气压是一个重要的参数。通常情况下，气压越低，离子的平均自由程越长，离子能够到达的地方越...

氧化镍靶材溅射参数氧化镍（Ni0）靶材是一种常见的用于溅射制备薄膜的材料，具有良好的化学稳定性和光电性能，被广泛应用于光伏、显示器件、传感器等领域。在溅射制备过程中，溅射参数的选择对薄膜性能和成膜率具有重要影响。本文将对氧化镍靶材溅射参数进行详细介绍。一、靶材制备和性能分析1．靶材制备氧化镍靶材通常采用粉末冶金法进行制备。制备工艺包括原料配比、混合、压制和烧结等步骤。在原料配比中，通常选用高...

半导体溅射是一种利用高能粒子轰击半导体材料表面，使其原子或分子脱离并沉积在其他材料表面的技术。在半导体制造过程中，半导体溅射技术的应用非常广泛，其中最常见的应用是在集成电路制造中，通过半导体溅射技术，可以制造出金属膜、氧化物膜等材料，这些材料可以用于制造电容器、电感器、电阻器等元件。此外，半导体溅射技术还可以用于制造太阳能电池、LED等光电器件。半导体溅射是一种利用高能粒子轰击半导体材料表面...

溅射过程中氮气和氩气的分压应该如何控制在溅射过程中，氮气和氩气的分压需要根据材料的特性和膜的要求进行控制，通常使用比例计算来确定分压比例。一、溅射过程中氮气和氩气的作用在溅射过程中，氮气和氩气是两种常用的惰性气体，主要作用是控制膜的质量和性能。其中，氮气通常用于氮化处理，可以在膜表面形成一层硬度更高的氮化物，增强膜的耐磨性和耐腐蚀性；而氩气则被用作氧化处理，可以增强膜的透过性和抗反射性。二、...

理解溅射镀膜速率的决定因素：靶材、气体与能量的作用1. 影响溅射镀膜速率的关键因素A. 影响因素综述靶材特性材料种类：不同材料的原子结构、键能和原子质量对溅射速率有显著影响。例如，金属靶材通常具有较高的溅射速率，而陶瓷靶材由于其高硬度和低溅射产额，溅射速率较低。原子质量与键能：较高的原子质量和键能会降低溅射速率，因为更大的能量输入需要打破原子间的键。溅射气体类型与压力气体种类：常用的溅射气体...

溅射镀膜的工作气体选择指南 一、溅射镀膜的基本原理溅射镀膜是一种物理气相沉积（PVD）技术，其基本原理是利用高能粒子轰击靶材表面，使靶材表面的原子或分子被激发并从靶材表面飞出，沉积在基材表面形成薄膜。溅射镀膜具有沉积速度快、附着力强、可控性高等优点，被广泛应用于电子、光学、装饰等领域。二、工作气体的作用在溅射镀膜过程中，工作气体起着至关重要的作用。其主要作用包括以下几点：1. 维持等离子体：...

一、介绍磁控溅射磁控溅射是一种利用高速离子轰击靶材产生的金属粒子进行表面处理的技术，可以在材料表面形成一层薄膜，应用广泛。在磁控溅射过程中，磁场用来控制离子轰击靶材的方向和能量，气体则用来维持离子产生过程。二、常用的磁控溅射气体1.惰性气体惰性气体包括氩、氦、氖、氙等。这些气体具有化学不活性，气态稳定性好，善于产生精细的纳米颗粒。其中氩气是最常用的磁控溅射气体，因为其具有丰富的气态谱线和良好...

陶瓷与金属的连接件广泛应用于半导体封装、IGBT模块、新能源汽车和电子电气等领域。因陶瓷材料的种类不同，选择的金属封接方式也有所差异。目前 ， 国内常见的陶瓷基板材料有Al2O3、AlN 和Si3N4，三种基板的重要性能参数如下：Al2O3、AlN 和 Si3N4 陶瓷基板性能参数对于Al2O3陶瓷基板主要采用直接覆铜工艺，AlN陶瓷基板可采用DBC或AMB工艺，Si3N4 陶瓷基板在生产中...

经常有人问我们可以做什么靶材?其实能做的靶材多了，我们也很难一次说完~为了大家更好的了解我们的产品，我们会根据靶材的难易程度，整理出对应的清单，大家可以根据需要来选择哦~难制备、复杂、掺杂的靶材清单如下：蒂姆（北京）新材料科技有限公司货号产品名称规格包装AgSbTe2-T40S63银锑碲 靶材(AgSbTe2)99.99% φ30*3mm1片AgSbTe2-T40S63B2银锑碲 靶材(Ag...