镀膜用晶振片的选择、品牌推荐及优缺点分析

镀膜用晶振片的选择、品牌推荐及优缺点分析

一、镀膜用晶振片的选择

镀膜用晶振片的选择需要考虑多个因素，包括镀膜工艺类型、沉积材料、工作环境温度、测量精度要求等。以下是一些具体的选择建议：

1. 镀膜工艺类型：

• 蒸发工艺：推荐使用标准晶振片，如5 MHz镀铝晶振片，因为蒸发工艺的材料沉积速率通常较平稳，对晶振片的要求不苛刻。

• 溅射工艺：选择耐冲击的晶振片，如陶瓷背基晶振片，因为溅射工艺中颗粒会撞击晶振片，标准晶振容易受损。

• CVD工艺：选择耐高温和抗化学腐蚀的晶振片，如覆盖耐腐蚀层的晶振片（金或氧化钛涂层晶振片）。

1. 沉积材料：

• 高温蒸发材料（如金属钼）：需选用耐热型晶振片。

• 高应力膜层材料（如镍、铬、钼等）：使用镀银或银铝合金晶振片，因为这些材料容易产生高应力，膜层容易从晶体基片上剥落或裂开。

• 介质光学膜料（如氟化镁、二氧化硅等）：选用合金晶振片，这些膜料在凝结过程中会产生巨大的应力，容易使晶振片失效。

1. 工作环境温度：

• 根据镀膜工艺中的工作温度范围，选择适合工作温度范围的晶振片，以确保晶振片在不同温度下也能正常工作。

1. 测量精度要求：

• 对测量精度要求高的场合，选择高灵敏度的晶振片，如专用薄膜晶振，以确保测量结果的准确性。

二、镀膜用晶振片品牌推荐

在镀膜用晶振片领域，一些知名品牌如EPSON爱普生、NDK、台湾晶技TXC、KYOCERA京瓷等都有着良好的口碑和稳定的产品质量。这些品牌的产品种类齐全，涵盖了各种类型、规格和材质的晶振片，可以满足不同镀膜工艺的需求。

三、镀膜用晶振片优缺点分析

1. 标准晶振片

• 优点：

• 成本低，易于获取。

• 适用于大多数蒸发工艺，测量精度适中。

• 缺点：

• 耐冲击性和耐高温性较差，不适用于溅射和CVD等工艺。

• 测量精度和稳定性相对有限。

2. 陶瓷背基晶振片

• 优点：

• 耐冲击性强，适用于溅射工艺。

• 提高了晶振片的稳定性和使用寿命。

• 缺点：

• 成本相对较高。

• 可能不适用于所有类型的镀膜工艺。

3. 合金晶振片

• 优点：

• 耐高温和抗化学腐蚀性强，适用于CVD等高温和腐蚀性环境。

• 适用于介质光学膜料的镀膜工艺。

• 缺点：

• 成本较高。

• 适用性相对较窄，需根据具体镀膜工艺进行选择。

4. 高灵敏度晶振片（如专用薄膜晶振）

• 优点：

• 测量精度高，适用于对测量精度要求高的场合。

• 响应速度快，能够实时监测镀膜过程中的微小变化。

• 缺点：

• 成本高昂。

• 可能需要更复杂的安装和调试过程。

综上所述，镀膜用晶振片的选择应根据具体的镀膜工艺类型、沉积材料、工作环境温度和测量精度要求等因素进行综合考虑。在选择品牌时，可以优先考虑知名品牌如EPSON爱普生、NDK等，以确保产品质量和稳定性。同时，也需要根据实际需求和预算进行权衡，选择最适合自己需求的晶振片。