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光伏与新能源用靶材:
用于太阳能电池、锂电储能等新能源领域的溅射或蒸镀材料,通过沉积功能薄膜实现光吸收、电荷传输、抗反射等核心功能,是提升能量转换效率的关键材料。
薄膜光伏发电
CCDs(电荷耦合器件)、CRTs(阴极射线管)、平板、电致发光、光致发光
太阳能热
CIG(S),硅或碲化镉基(CdTe) 技术。
典型的材料
碲化镉、硒化镉、硫化镉、铟锡氧化物、二氧化硅二氧化硅、硼化锆ZrB2、各种金属及其合金
太阳能电池行业常用靶材 | ||||
型号 | 品名 | 规格 | 纯度 | 品牌 |
陶瓷靶材 | ITO | 按客户需求定制 | 99.99% | 蒂姆科瑞特 |
AZO | 99.99% | 蒂姆科瑞特 | ||
IGZO | 99.99% | 蒂姆科瑞特 | ||
ZnO | 99.99% | 蒂姆科瑞特 | ||
NiO | 99.99% | 蒂姆科瑞特 | ||
SnO2 | 99.99% | 蒂姆科瑞特 | ||
单质靶材 | Cu | 99.99% | 蒂姆科瑞特 | |
Ni | 99.90% | 蒂姆科瑞特 | ||
Ti | 99.99% | 蒂姆科瑞特 | ||
Mo | 99.95% | 蒂姆科瑞特 | ||
In | 99.99%-99.995% | 蒂姆科瑞特 | ||
Cr | 99.8%-99.95% | 蒂姆科瑞特 | ||
Si | 99.9%-99.999% | 蒂姆科瑞特 | ||
合金靶材 | CuGa | 99.95% | 蒂姆科瑞特 | |
CuInGa | 99.95% | 蒂姆科瑞特 | ||
CuNi | 99.95% | 蒂姆科瑞特 | ||
NiCr | 99.9% | 蒂姆科瑞特 | ||
蒸镀膜料 | Au、Ag、Pt、Sn、Cr、Ti、Ni、Cu、In、Se | DMCR | ||
ITO、AZO、IGZO、ZnO、SnO2、TiO2、Ti3O5 | DMCR |
一、主流靶材类型与特性对比
靶材类型 | 核心成分 | 关键特性 | 主要应用场景 |
---|---|---|---|
ITO靶 (铟锡氧化物) | In₂O₃:SnO₂=90:10 wt% | • 高透光率(>90%) • 低电阻(~2×10⁻⁴ Ω·cm) | 晶硅太阳能电池透明导电层 OLED电极 |
AZO靶 (铝掺杂氧化锌) | ZnO:Al₂O₃=98:2 wt% | • 低成本、耐候性强 • 电阻率~5×10⁻⁴ Ω·cm | 薄膜太阳能电池 建筑光伏玻璃 |
CIGS靶 (铜铟镓硒) | Cu(In,Ga)Se₂ | • 高光吸收系数(>10⁵ cm⁻¹) • 可调带隙(1.0-1.7 eV) | 铜铟镓硒薄膜太阳能电池吸收层 |
CdTe靶 (碲化镉) | CdTe | • 直接带隙(1.45 eV) • 转换效率>22% | 碲化镉薄膜太阳能电池核心层 |
锂电正极靶 (NCM) | LiNi₁₋ₓ₋ᵧCoₓMnᵧO₂ | • 高比容量(>200 mAh/g) • 循环稳定性 | 锂离子电池正极薄膜电极 |
钙钛矿靶 (MAPbI₃) | CH₃NH₃PbI₃ | • 超高光吸收系数(>10⁵ cm⁻¹) • 可溶液加工 | 钙钛矿太阳能电池光活性层 |
二、关键性能指标与新能源需求
性能参数 | 光伏/锂电行业要求 | 典型靶材达标示例 |
---|---|---|
透光率 (可见光) | ≥85%(ITO/AZO) | ITO靶 • 550nm透光率92% • 电阻3×10⁻⁴ Ω·cm |
光吸收系数 | >10⁴ cm⁻¹(薄膜电池) | CIGS靶 • 吸收系数1.5×10⁵ cm⁻¹ • AM1.5效率23.35% |
电化学稳定性 | 循环寿命>1,000次(锂电) | NCM811靶 • 1C充放电容量保持率80%@1,000次 |
元素利用率 | 溅射效率≥70% | AZO靶 • 旋转靶设计 • 材料利用率85%(↑15% vs行业标准) |
三、关键性能指标与新能源需求
性能参数 | 行业要求 | 典型达标案例 | 技术亮点 |
---|---|---|---|
透光率 (可见光) | ≥85% (ITO/AZO) | ITO靶 • 550nm透光率92% • 电阻3×10⁻⁴ Ω·cm | 超行业标准7% |
光吸收系数 | >10⁴ cm⁻¹ (薄膜电池) | CIGS靶 • 吸收系数1.5×10⁵ cm⁻¹ • AM1.5效率23.35% | 吸收系数达行业标准15倍 |
电化学稳定性 | 循环寿命>1,000次 (锂电) | NCM811靶 • 1C充放电容量保持率80%@1,000次 | 满足动力电池长循环要求 |
元素利用率 | 溅射效率≥70% | AZO靶 • 旋转靶设计 • 材料利用率85% | 利用率提升15个百分点 |
四、制备工艺与核心技术
工艺环节 | 关键技术 | 典型设备/方法 | 关键指标 |
---|---|---|---|
粉末合成 | • 喷雾热解法(CIGS纳米粉体) • 共沉淀法(NCM前驱体) | 高温喷雾干燥塔 | 粒径D50≤5μm |
成型烧结 | 热压烧结(压力50-100 MPa,温度1,200-1,400°C) | 真空热压炉 | 密度≥98%理论值 |
绑定技术 | • 金属-陶瓷共烧(Mo背板绑定CIGS靶) • 激光焊接(旋转靶) | 激光焊接机 | 焊缝强度≥200 MPa |
表面处理 | 磁控溅射预镀过渡层(如TiO₂) | 射频磁控溅射机 | 基板温度≤200°C |
五、技术挑战与前沿攻关
靶材类型 | 技术挑战 | 创新解决方案 | 技术优势 |
---|---|---|---|
ITO靶 | 铟资源稀缺(全球储量仅5万吨) | 开发In-Free替代材料: • AZO靶(ZnO:Al₂O₃) • 石墨烯/银纳米线复合靶 | • 成本降低30-50% • 保持>85%透光率 |
CIGS靶 | 元素比例控制严苛(Cu/(In+Ga)=0.8-0.95) | 等离子体辅助沉积(PAD)技术: • 实时组分监控 • 精度±0.5% | • 批次一致性提升40% • 转换效率达23.5% |
NCM靶 | 高镍化(Ni≥80%)导致循环衰减 | 表面包覆方案: • Al₂O₃纳米层(ALD技术) • 厚度2-5nm可控 | • 循环寿命提升2-3倍 • 1C容量保持率>90%@500次 |
钙钛矿靶 | 铅毒性及环境稳定性差 | 无铅替代材料: • Cs₂AgBiBr₆ • Sn/Ge基钙钛矿 | • 环境友好 • 效率突破12% • T80寿命>1000h |
六、未来发展趋势
技术方向 | 发展路径 | 预期效益 |
---|---|---|
低成本替代材料 | • 石墨烯/银纳米线复合靶 - 透光率≥90% - 方阻<10 Ω/sq | • 材料成本降低50% • 实现ITO在BIPV中的完全替代 |
高效率薄膜技术 | • 量子点CIGS靶 - 带隙梯度设计 - 多结结构优化 | • 转换效率突破30% (当前纪录28.9%) • 接近理论极限(33%) |
固态电池靶材 | • 硫化物固态电解质靶 - Li₃PS₄溅射靶材 - 界面改性技术 | • 能量密度提升至500 Wh/kg (当前300 Wh/kg) • 循环寿命提升3倍 |
回收再利用 | • 废靶材铟回收工艺升级 - 电解-萃取联用技术 - 纯度维持4N级 | • 铟回收率提升至95% (当前80%) • 降低进口依赖度60% |
蒂姆(北京)新材料科技有限公司
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镀膜玻璃(反射玻璃)是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜,以改变玻璃的光学性能,满足不同需求,广泛应用于建筑、汽车、太阳能等领域。
LowE玻璃的镀膜层主要使用的材料包括银、镍铬、硅铝、氧化钛、锌锡、锌铝、铬等。以下是关于这些材料的简要说明:
银:因其优异的导电性和反射性能,常被用作LowE玻璃镀膜层的关键材料,有助于提高玻璃的隔热效果。
镍铬:具有良好的稳定性和耐腐蚀性,常用于增强镀膜层的耐久性和性能。
硅铝:作为化合物材料,硅铝镀膜层能够提供一定的硬度和耐磨性,同时保持良好的光学性能。
氧化钛:具有高透光性和良好的化学稳定性,有助于提升LowE玻璃的整体性能。
锌锡、锌铝:这些合金材料能够提供优异的反射性能和耐腐蚀性,是LowE玻璃镀膜层的常用材料之一。
铬:因其高硬度和良好的反射性能,常被用于增强镀膜层的硬度和耐久性。
此外,LowE玻璃镀膜层的生产工艺中,真空磁控溅射是目前最好的方法之一。这种方法能够精确地控制镀膜层的成分和厚度,从而获得优异的隔热和透光性能。
LowE玻璃镀膜层的颜色主要以灰色和蓝色为主,这些颜色可以通过光学测试仪器进行现场检验,以确保镀膜层的质量和性能符合标准。
材料类型 | 关键特性 | 功能优势 | 工艺参数 | 典型应用层 |
---|---|---|---|---|
银(Ag) | • 导电率6.3×10⁷ S/m • 红外反射率>95% | • 核心功能层 • 提升隔热效率(U值≤1.0 W/m²K) | 厚度10-15nm(磁控溅射) | 功能层 |
镍铬(NiCr) | • 电阻率1.1 μΩ·m • 耐盐雾>500h | • 阻挡层/种子层 • 增强环境稳定性(湿热测试3000h) | 复合比例80:20,厚度3-5nm | 过渡层 |
硅铝(SiAl) | • 硬度8GPa • 折射率1.8-2.2 | • 抗划伤保护层 • 调节可见光透射率(40-70%) | 反应溅射(Ar+O₂) | 外层保护 |
氧化钛(TiO₂) | • 介电常数80 • 光催化活性 | • 自清洁功能层 • 提升紫外阻隔率(>99% @380nm) | 厚度20-30nm(阳极氧化) | 表面处理层 |
锌锡(ZnSn) | • 电阻率2×10⁻⁴ Ω·cm • 熔点420℃ | • 银层替代方案 • 成本降低40%(保持LOW-E性能) | 共溅射(Zn:Sn=9:1) | 低成本功能层 |
锌铝(ZnAl) | • 耐候性ASTM B117>2000h • 延展性>15% | • 可弯曲基板适配 • 焊接性能优异(接触电阻<0.1Ω) | 热蒸发沉积 | 柔性玻璃镀膜 |
铬(Cr) | • 硬度9Mohs • 附着力5B级 | • 高耐久终端层 • 中性色调控(L*值55-65) | 离子镀(偏压100V) | 色彩调节层 |
一、ITO膜
ITO膜是一种常用的触摸屏镀膜材料,具有良好的导电性和透明性,可以实现触摸屏的灵敏操作和清晰的显示效果。ITO膜还有抗静电、抗紫外线、耐腐蚀等优点,因此广泛应用于各种电子产品和光电领域。
二、金属膜
金属膜也是一种常见的触摸屏镀膜材料,如铜、铝、钻、银等。与ITO膜相比,金属膜具有更好的导电性能和可调节的反射率,因此在高级车载触摸屏、工业控制面板等设备上得到广泛应用。
三、氧化物膜
氧化物膜包括氧化锌、氧化铟锡、氧化镁等,具有优异的机械强度和导电性能,同时具有光学性能和可调节的反射率。氧化物膜具有良好的适应性,能够适应于各种基板材料和工艺。
触摸屏镀膜材料的选择应该根据具体应用场景,包括触摸屏的大小、光学性能要求、可调节反射率等多个因素综合考虑,使得触摸屏具有更好的使用体验和维护性能。
半导体镀膜材料
各种材料的薄膜沉积,应用于集成电路加工、布线、电极、绝缘材料中。
型号 | 品名 | 规格 | 纯度 | 品牌 |
单质靶材 | Cu | 按客户需求定制 | 99.99% | 蒂姆科瑞特 |
Ti | 99.99% | 蒂姆科瑞特 | ||
W | 99.99% | 蒂姆科瑞特 | ||
Al | 99.99% | 蒂姆科瑞特 | ||
Si | 99.99% | 蒂姆科瑞特 | ||
Mo | 99.99% | 蒂姆科瑞特 | ||
Cr | 99.99% | 蒂姆科瑞特 | ||
Ta | 99.99% | 蒂姆科瑞特 | ||
Ag | 99.99% | 蒂姆科瑞特 | ||
Pt | 99.9% | 蒂姆科瑞特 | ||
Ir | 99.99% | 蒂姆科瑞特 | ||
Sc | 99.95% | 蒂姆科瑞特 | ||
In | 99.99% | 蒂姆科瑞特 | ||
合金靶材 | AlSc | 99.8%-99.99% | 蒂姆科瑞特 | |
NiFe | 99.9%-99.999% | 蒂姆科瑞特 | ||
NiCr | 99.95% | 蒂姆科瑞特 | ||
NiCu | 99.95% | 蒂姆科瑞特 | ||
NiV | 99.95% | 蒂姆科瑞特 | ||
WTi | 99.9% | 蒂姆科瑞特 | ||
蒸镀膜料 | Cu、Ti、W、Al、Mo、Cr、Ta、Ag、Au、Pt、Ir、Y | DMCR |
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