在光学镀膜、半导体器件和高温防护涂层领域,氮化硼(BN)薄膜因其优异的绝缘性、耐高温性和化学稳定性,正成为电子束蒸镀工艺中的热门材料。然而,不少工艺工程师在实际操作中常遇到膜层厚度不均、应力开裂或纯度不达标的问题。这些问题的根源,往往不在材料本身,而在工艺参数的匹配。以下是我们基于 99.5%纯度、1-3mm 氮化硼颗粒的实际蒸镀经验,总结的均匀性控制要点:一、真空度:干净的环境是一切的前提...
三氧化钼(MoO₃)用电子束蒸镀(EBE)有几个特有的坑,主要是热分解和失氧。下面是具体的工艺控制要点和均匀性优化方案: 一、MoO₃ EBE 的核心难点 1. 热分解倾向 MoO₃在加热时不是简单熔化蒸发,而是会逐步失氧:MoO₃ → MoO₂ + ½O₂(~700°C开始明显)MoO₂ → MoO + O₂(更高温度)如果束流太猛或扫描太集中,坩埚里的MoO₃会变成深蓝色的MoO₂甚至金...
钼(Mo)坩埚是蒸镀工艺中最常用的金属坩埚之一,但它的使用有明确的边界——钼会与某些活泼金属反应形成合金。钼坩埚适用的蒸镀材料1. 兼容性良好的膜料膜料熔点(℃)说明金(Au)1064化学惰性,不反应,蒸镀稳定银(Ag)962蒸镀性能良好,膜层纯净铜(Cu)1085常用组合,坩埚寿命长镍(Ni)1455高温稳定,无反应铬(Cr)1907适合装饰镀和硬质膜钛(Ti)1668结合层、装饰镀常用硅...