蒂姆新材料

碳化硼（B₄C），人称"黑钻石"，硬度仅次于金刚石和立方氮化硼，熔点高达 2350°C。这种材料制备的薄膜具有高硬度、低膨胀系数和优异的红外透过性，在核工业中子吸收层、红外光学保护涂层和超硬防护膜领域需求旺盛。但高熔点化合物的电子束蒸镀从来不是一件简单的事——飞溅、分解、膜层不均，每个问题都可能让整炉镀膜报废。以下是我们基于 99.5%纯度、3-5mm 碳化硼颗粒的实际蒸镀经验，总结的核心工...

在光学镀膜、半导体器件和高温防护涂层领域，氮化硼（BN）薄膜因其优异的绝缘性、耐高温性和化学稳定性，正成为电子束蒸镀工艺中的热门材料。然而，不少工艺工程师在实际操作中常遇到膜层厚度不均、应力开裂或纯度不达标的问题。这些问题的根源，往往不在材料本身，而在工艺参数的匹配。以下是我们基于 99.5%纯度、1-3mm 氮化硼颗粒的实际蒸镀经验，总结的均匀性控制要点：一、真空度：干净的环境是一切的前提...

三氧化钼（MoO₃）用电子束蒸镀（EBE）有几个特有的坑，主要是热分解和失氧。下面是具体的工艺控制要点和均匀性优化方案： 一、MoO₃ EBE 的核心难点 1. 热分解倾向 MoO₃在加热时不是简单熔化蒸发，而是会逐步失氧：MoO₃ → MoO₂ + ½O₂（~700°C开始明显）MoO₂ → MoO + O₂（更高温度）如果束流太猛或扫描太集中，坩埚里的MoO₃会变成深蓝色的MoO₂甚至金...