一、主要用途
铝硅钇合金靶材：铝硅钇合金靶材适用于工业级镀膜，实验或研究级别用铝硅钇靶材，电子，光电，军用，装饰，功能薄膜等。
二、适用领域
1、适用溅射设备品牌
A.适用设备：单靶溅射系统，双靶溅射系统，JC500型磁控溅射仪，DE300DL 磁控溅射系统
B.适用设备品牌：国产品牌：南光机器厂、北京仪器厂、金盛微纳、沈阳科仪、JK-LASKER、微电子所等品牌
2、常规尺寸：
1.直径：1英寸，2英寸，3英寸，4英寸，5英寸等不同直径
2.厚度：1mm，2mm，3mm，4mm等尺寸可定做
三、产品详情及价格：
| 货号 | 产品名称 | 规格 | 包装 | 数量 | 单价 | 交期 |
| AlSiY-T3074 | 铝硅钇合金 靶材 | Al:Si:Y=94.3:4.5:1.2 wt%
99.9% 100*4mm 热压工艺 | 片 | 1 |
| 10-12个工作日 |
注：以上均为含税含运费价格，13%增值税发票，发票随货寄。
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