摘要：
目的：
研究溅射功率对CoCrFeNi高熵合金薄膜硬度和电阻率的影响,期望获得同时具有高硬度和高电阻率的高熵合金薄膜,为其在电阻薄膜领域的应用提供实验基础.
方法：
在不同溅射功率条件下(40、60、80、100 W),利用CoCr合金靶、Ni片和Fe片拼接成合金靶,采用磁控溅射法在硅基底表面沉积CoCrFeNi高熵合金薄膜.利用XRD分析薄膜相结构,通过SEM分析薄膜成分和形貌,利用显微硬度计测量薄膜硬度,采用双电测四点探针法测定薄膜电阻率.结果不同溅射功率下制备的CoCrFeNi薄膜均与基底结合良好,呈柱状生长模式,且合适的溅射功率有助于获得等摩尔比高熵合金薄膜.随着溅射功率由40 W升高至100 W,薄膜结晶性得到改善,形成简单的FCC相,(111)择优生长更加强烈,柱状生长愈加明显,晶粒尺寸增大,硬度和电阻率降低.
结论：
溅射功率对CoCrFeNi薄膜组织和性能具有重要影响.当溅射功率为40 W时,CoCrFeNi薄膜同时具有最高硬度和最大电阻率,其值分别为940.5HV和336.5μΩ?cm.

文章出处：
作者：谈淑咏刘晓东霍文燚方峰杜兴皮锦红王章忠
单位名称：
南京工程学院材料科学与工程学院,南京 211167;
江苏省先进结构材料与应用技术重点实验室,南京 211167
东南大学材料科学与工程学院,南京,211189
南京工程学院材料科学与工程学院,南京,211167
链接：http://www.wanfangdata.com.cn/details/detail.do?_type=perio&id=bmjs201910020# ;

相关文献：
1.氮流量比对磁控溅射(CoCrFeNi)Nx高熵合金薄膜的组织和性能的影响
作者：刘晓东谈淑咏霍文燚张旭海邵起越方峰
单位：
东南大学江苏省先进金属材料高技术研究重点实验室南京211189
南京工程学院材料工程学院南京211167
链接：http://www.wanfangdata.com.cn/details/detail.do?_type=perio&id=clyjxb201903004

摘要：
采用直流磁控溅射法制备(CoCrFeNi)Nx高熵薄膜,研究了氮流量比对薄膜的力学性能和电磁性能的影响.结果表明,在不同氮流量比条件下制备的(CoCrFeNi)Nx薄膜,都具有致密的组织、简单的FCC结构并呈现(200)择优取向.随着氮流量比从10％提高到30％,薄膜的硬度和弹性模量随之增大,其最大值达到14 GPa和212 GPa;电阻率基本上呈增大的趋势,最大值达到138 μΩ·cm;饱和磁化强度和磁导率随之减小,薄膜饱和磁化强度最高为427.43 emu/cm3.薄膜的矫顽力约为0.

高熵合金制备专用材料：
CoCr合金靶材，尺寸、成分比例可定制
NiFe合金靶材，尺寸、成分比例可定制
Ni 片/Ni 靶材，尺寸可定制
Fe 片/Fe 靶材，尺寸可定制

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