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氮化硅靶颗粒(Si3N4)

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品牌 蒂姆新材料
材质 Si3N4
规格 99.5% 尺寸可定制
供货状态 靶材
相关产品 氮化硅靶材,氮化铝靶材,氮化钛靶材,氮化硼靶材,氮化硼坩埚,氮化硅颗粒
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一、主要用途:

氮化硅 靶材 (Si3N4)适用于工业级镀膜,实验或研究级别用铈靶材,电子,光电,军用,装饰,功能薄膜等。Si3N4 靶材 99.5% φ60×4mm (3).jpg

二、适用领域

1适用溅射设备品牌:

A.适用设备:单靶溅射系统,双靶溅射系统,JC500型磁控溅射仪,DE300DL 磁控溅射系统

B.适用设备品牌:国产品牌:南光机器厂、北京仪器厂、金盛微纳、沈阳科仪、JK-LASKER、微电子所等品牌

2常规尺寸:

1.直径:1英寸,2英寸,3英寸,4英寸,5英寸等不同直径

2.厚度:1mm2mm,3mm,4mm等尺寸可定做

三、产品详情及价格:

货号产品名称规格包装数量交期备注
Si3N4-G3501氮化硅 颗粒(Si3N4)99.95% 1-3mm100g110-15个工作日
Si3N4-G3501氮化硅 颗粒(Si3N4)99.95% 1-3mm500g110-15个工作日
Si3N4-G3501氮化硅 颗粒(Si3N4)99.95% 1-3mmkg110-15个工作日
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