碳化钨靶材：适用于工业级镀膜，实验或研究级别用碳化钨靶材，电子，光电，军用，装饰，功能薄膜等。
一、主要用途：
适用于磁控溅射制备薄膜
二、适用领域：
1、适用溅射设备品牌：
A.适用设备：单靶溅射系统，双靶溅射系统，JC500型磁控溅射仪，DE300DL 磁控溅射系统
B.适用设备品牌：国产品牌：南光机器厂、北京仪器厂、金盛微纳、沈阳科仪、JK-LASKER、微电子所等品牌
2、常规尺寸：
1.直径：1英寸，2英寸，3英寸，4英寸，5英寸等不同直径
2.厚度：1mm，2mm，3mm，4mm等尺寸可定做
三、产品详情及价格：
| 货号 | 产品名称 | 规格 | 包装 | 数量 | 交期 | 备注 |
| WC-ST2508 | 碳化钨 靶材(WC) | 99.5% 100*100*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| WC-T2523 | 碳化钨 靶材(WC) | 99.5% φ50.8*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| WC-T2523B2 | 碳化钨 靶材(WC) | 99.5% φ50.8*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| WC-T2533 | 碳化钨 靶材(WC) | 99.5% φ60*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| WC-T2533B2 | 碳化钨 靶材(WC) | 99.5% φ60*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| WC-T2545 | 碳化钨 靶材(WC) | 99.5% φ75*5mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| WC-T2553 | 碳化钨 靶材(WC) | 99.5% φ76.2*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| WC-T2553B2 | 碳化钨 靶材(WC) | 99.5% φ76.2*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| WC-T2554 | 碳化钨 靶材(WC) | 99.5% φ76.2*4mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| WC-T2554B2 | 碳化钨 靶材(WC) | 99.5% φ76.2*4mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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