溅射气压对磁控溅射成膜性能的影响郑建潮 浙江大学信电系在直流磁控溅射过程中, 溅射气压( 工作气压)是一个很重要的参数, 它对溅射速率, 沉积速率以及薄膜的质量都有很大的影响。气体分子从一次碰撞到相邻的下一次碰撞所通过的距离的统计平均值, 称之为平均自由程。从分子的平均自由程的角度来说, 溅射气体压力低时溅射粒子的平均自由程大, 与气体离子的碰撞的几率小, 使沉积速率增大。但是, 溅射气...
可以用来制备ITO薄膜的成膜技术很多，如磁控溅射沉积 、真空蒸发沉积和溶胶- 凝胶( Sol -Gel)法等。1 磁控溅射沉积磁控溅射沉积可分为直流磁控溅射沉积和射频磁控溅射沉积。直流磁控溅射是目前应用较广的镀膜方法，一般使用导电铟锡合金靶，溅射室抽真空后除了要通入惰性气体Ar ，还要通入反应气体O2 。溅射的基本过程：靶材是需要溅射的材料作为阴极，作为阳极的衬底加有数千伏的电压。在对系统预...
1、氧化铝基本性能参数2、镀氧化铝膜的特点3、镀氧化铝膜的方法 镀氧化铝膜的方法主要分为物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD），其中物理气相沉积主要有蒸镀法和磁控溅射法，蒸镀法根据加热方式不同分为电阻加热、高频感应加热和电子束加热三种，其中电阻加热的温度可达1600℃，而电子束和高频感应加热可达3000℃。磁控溅射法相比于蒸镀法，其膜层与基材结合力强、膜层致密性及均匀性好。化学气相沉...
