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磁控溅射钛靶材会不会烧红？原因和解决对策是什么？磁控溅射钛靶材是一种重要的薄膜材料，它可以在真空条件下通过电弧或高能离子轰击的方式将固态材料制备成薄膜，应用于电子、光电等领域。在磁控溅射制备中，钛靶材是常用的材料之一。一、磁控溅射钛靶材会不会烧红？在磁控溅射制备过程中，钛靶材吸收高能离子后会产生热量，这可能导致钛靶材烧红的问题。一些实验结果表明，在制备过程中，钛靶材表面温度较高时可能会出现烧...

可以用来制备ITO薄膜的成膜技术很多，如磁控溅射沉积 、真空蒸发沉积和溶胶- 凝胶( Sol -Gel)法等。1 磁控溅射沉积磁控溅射沉积可分为直流磁控溅射沉积和射频磁控溅射沉积。直流磁控溅射是目前应用较广的镀膜方法，一般使用导电铟锡合金靶，溅射室抽真空后除了要通入惰性气体Ar ，还要通入反应气体O2 。溅射的基本过程：靶材是需要溅射的材料作为阴极，作为阳极的衬底加有数千伏的电压。在对系统预...

1、氧化铝基本性能参数2、镀氧化铝膜的特点3、镀氧化铝膜的方法 镀氧化铝膜的方法主要分为物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD），其中物理气相沉积主要有蒸镀法和磁控溅射法，蒸镀法根据加热方式不同分为电阻加热、高频感应加热和电子束加热三种，其中电阻加热的温度可达1600℃，而电子束和高频感应加热可达3000℃。磁控溅射法相比于蒸镀法，其膜层与基材结合力强、膜层致密性及均匀性好。化学气相沉...

真空镀铝膜性能指标及厚度测量方法一、镀铝膜厚度测量方法镀铝膜厚度测量一般采用下述三种方法。第一种是光密度法，以光线透过镀铝膜的密度来衡量。用光密度计量镀铝层厚度的优点是方便、准确，测量结果不易受表面氧化层的影响。光密度值与入射光波长有关。第二种是采用表面方块电阻测量。此法简单实用，一般铝层厚度对应的表面电阻一般在1~2。取样或宽1cm长，10cm的电阻值在1~20之间。镀膜刚下卷时，铝层表面...

说到显示技术，大家最熟悉的可能还是LCD和LED液晶显示屏，但若您现在再去商城采购，会发现OLED（有机发光二极管）显示技术已经成为了新的主流。OLED技术是指有机半导体材料和发光材料在电场驱动下，通过载流子注入和复合导致发光的现象。作为一种固态自发光技术，OLED不需要以前用LCD搭配LED背光源的组合，因此可以将电视厚度做得很薄，可视角度更广、功耗更低、色彩也更丰富，并且可以在塑料、树脂...

用粘附性判定标准值判断薄膜粘附性好坏的一种方法与流程本发明属于超声表面波无损检测领域，涉及一种薄膜粘附性好坏的判定方法。背景技术：薄膜科学在微电子领域有着重要的应用。Low-k互连是高速超大规模集成(ULSI)电路发展中的一个重要理念，由于其可以减少互连延迟，串扰以及电路的能量损耗。在low-k薄膜的各项特性中，界面粘附性是一个非常重要的特性，它显著地影响了互连系统的稳定性和可靠性。在薄膜的...

ITO 是Indium Tin Oxides的缩写，即掺锡氧化铟。是透明导电氧化物TCOs的一种，由于最好的导电性和透明性的组合性能，成为最主要的透明导电材料，主要应用于液晶显示器，触摸屏，太阳能薄膜电池，照明用有机EL元件等领域。氧化铟，只吸收紫外光，不吸收可见光，因此达到“透明”的表现。掺锡，虽然会损失透光度，但可以提高导电能力。因此，透光度和导电性是两个相互牵制的指标。　　ITO原料，...

ITO薄膜制作过程中的影响因素 作者：陈长增

说到ITO真空镀膜机镀制ITO薄膜，可能大家不知道是什么东西，如果说手机屏幕上面有一层透视的触摸屏，大家就会恍然大悟，我们现在日常使用的手机，上面都用一种ITO薄膜材料，即实现了透视的效果，也实现了触屏的效果。近些年，手机更新换代，使用广泛，几乎人手一台，ITO薄膜可以说消耗量也是巨大的。今天小编要为大家讲的是ITO真空镀膜机薄膜制作的影响因素：ITO真空镀膜机镀制ITO薄膜在溅镀过程中会产...

膜厚均匀度是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要指标。为提高膜厚均匀度，可以采取优化靶基距、改变基片运动方式、增加挡板机构和膜厚监控仪等措施。对于磁控溅射镀膜，由于其电磁场并非均匀，尤其是不均匀的磁场分布造成不均匀的等离子密度，导致靶原子的...

1、等离子体增强化学气相沉积的主要过程         等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术是借助于辉光放电等离子体使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。由于PECVD技术是通过应气体放电来制备...

脉冲磁控溅射是采用矩形波电压的脉冲电源代替传统直流电源进行磁控溅射沉积。脉冲磁控溅射技术可以有效的抑制电弧产生进而消除由此产生的薄膜缺陷，同时可以提高溅射沉积速率，降低沉积温度等一系列显著优点。         脉冲可分为双向脉冲和单向脉冲...

溅射铝膜的结构分析用X-PertProMPP型X射线粉末衍射仪对制备的AL膜微结构进行测试分析。X光管为Cu靶,CuKa射线波长为0.154056 nm,管压为40kV,管流为40mA,采用连续扫描方式,扫描范围2θ为5°～90°。图3 是...

2009-02-17 陈国良 福州大学物理与信息工程学院金属薄膜作为重要的光电材料,由于其优异的光学性质和电学性质,在薄膜电路和微电子电路以及器件中被广泛应用。在所有的金属材料中,Al不但具有仅次于Au、Ag、Cu3种金属的良好导电性和导热...

一、非均衡磁控溅射假设经过磁控溅射阴极的内、外两个磁极端面的磁通量不相等,则爲非均衡磁控溅射阴极。普通磁控溅射阴极的磁场汇集在靶面临近,而非均衡磁控溅射阴极的磁场很多向靶外发散普通磁控阴极磁场将等商子体紧密地约束在靶面跗近,而基片临近等离子...

膜强度不良的产生原因：① 基片与膜层的结合。一般情况，在减反膜中，这是膜弱的主要原因。由于基片表面在光学冷加工及清洗过程中不可避免地会有一些有害杂质附着在表面上，而基片的表面由于光学冷加工的作用，总有一些破坏层，深入在破坏层的杂质(如水汽、...

二、膜料点膜料点不良也是镀膜产品的一个常见问题，在日企、台企把膜料点称为“斑孔”顾名思义，膜料点就是蒸镀中，大颗粒膜料点随着膜料蒸汽分子一起蒸镀到了基片的表面，在基片表面形成点状的突起，有时是个别点，严重时是成片的细点，大颗粒点甚至可以打伤...

随着科技技术的发展和经济全球化，当今人类已进入知识经济社会和信息社会。并且伴随“中国制造”的发展，光学制造在中国大陆的土地上方兴未艾，发展迅猛异常。中国光学制造已经开始在国际经济舞台上有了重要的地位，中国的光学玻璃产量和光学零件产量已近名列...

本文内容转载自《传感器与微系统》，版权归《传感器与微系统》编辑部所有。陈俊光，谷专元，何春华，黄钦文，来萍，恩云飞工业和信息化部电子第五研究所，广东工业大学自动化学院，华南理工大学电子与信息学院摘要：针对微机电系统（MEMS）器件的可靠性问...

磁控溅射通常的溅射方法，溅射效率不高。为了提高溅射效率，首先需要增加气体的离化效率。为了说明这一点，先讨论一下溅射过程。当经过加速的入射离子轰击靶材(阴极)表面时，会引起电子发射，在阴极表面产生的这些电子，开始向阳极加速后进人负辉光区，并与...