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电阻加热式蒸发镀膜设备的技术要求和基本参数是什么工作条件：设备在环境温度为(25±5)℃，相对湿度不大于90%的条...

镀膜常见涂层及性能优点镀膜的表面涂层有很多种，不同的零件，不同的工作环境选用的膜层都不一眼个，今天我们就大致列举一...

磁控溅射的金属模式、化合物模式、合金模式是什么？化合物沉积速率的快慢？ 一、反应磁控溅射是什么？是具有一定能量的离...

自从2009年，Miyasaka等首先制得钙钛矿材料为吸光层的太阳能电池以来，钙钛矿太阳能电池由于光电效率高、工艺...

氮化硅镀膜工艺参数优化摘要：利用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法沉积给定折射率的氮化硅薄膜,通过正交实验法...

真空蒸镀工艺五大影响因素真空蒸镀工艺五大影响因素（真空度、基体表面状态、蒸发温度、蒸发和凝结速率、基体表面与蒸发源...

如何降低PCB镀金过程中金盐消耗？印制线路板是在通用基材上按预定设计形成点间连接的印制板，已广泛应用于各种电子电路...

电子束蒸发与磁控溅射镀膜的性能分析研究随着科学技术的不断发展，半导体器件的种类不断增多。原始点接触晶体管、合金晶体...

什么是光学镀膜？光学镀膜可以达到什么光学效果由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应...

手机镜头光学镀膜know how有哪些大家都知道光线通过不同介质时会产生反射和折射，而现代手机镜头结构更复杂镜片数...

真空镀膜产品出现膜脏该怎么办？镀膜产品的常见问题，部分是镀膜工序的本身造成的，部分是前工程遗留的问题，镀膜最终的品...

镀膜过程中喷点、潮斑(花斑)的成因及消除方法 真空镀膜的过程中有时会产生喷点及潮斑(花斑)，这些喷点、潮斑(花斑)...

镀膜常见涂层及性能优点镀膜的表面涂层有很多种，不同的零件，不同的工作环境选用的膜层都不一眼个，今天我们就大致列举一...

真空镀膜件外观发雾（雾化）不良分析及解决对策在高真空度的条件下，高纯度的镀层金属（如铝）在高温下蒸发后会自由地飞散...

镀膜膜料点改善思路膜料点不良是镀膜产品的一个常见问题，在日企、台企把膜料点称为“斑孔”。顾名思义，膜料点就是蒸镀中...

PVD真空镀膜技术知识问答Q1: 什么是PVD? 真空电镀加工真空镀膜技术A1: PVD是英文Physical V...

真空镀膜加工过程中，UV面涂是必不可少的一个环节，UV面漆的主要功能和作用就是保护电镀层，避免金属膜层在与空气接触...

一、磁控溅射镀膜－溅射原理：1.使chamber达到真空条件，一般控制在(2~5)E-5torr2.chamber...

磁控溅射镀常见问题 1.膜层灰暗及发黑(1)真空度低于0.67Pa。应将真空度提高到0.13-0.4Pa。(2)氩...

导言镀膜是半导体及光学工业中最为重要的工艺之一。这里会总体归纳各类镀膜/薄膜工艺，从原理上了解这些工艺的异同。简介...