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电子束蒸镀制备二氧化硅薄膜文献参考汇总2020-07-02 14:32
1.电子束蒸镀厚SiO2膜的工艺研究 摘要：本文研究了用电子束蒸镀工艺制备用于光波导器件的SiO2膜.采用高温退火处理工艺使SiO2膜的光学和物理特性稳定.在蒸镀过程中,输入不同压力的O2,可以改变和控制SiO2膜的组分,达到控制膜折射率的目的.通过逐次蒸镀、退火的工艺,实现1 μm以上厚SiO2膜的制备. Thick silicon dioxide films are prepared by electron beam evaporation technology at 200°C. The optical and physical characteristics of the SiO2 films can be stabilized after high temperature annealing processing. When evaporating, the composition of SiO2 films can be altered by introducing O2 with different pressure into the evaporation chamber, and the refractive index of SiO2 films can be controlled. The SiO2 films with thickness of 1 μm or more are fabricated after several steps of evaporation and annealing. 2.不同沉积温度下单纯蒸镀二氧化硅薄膜的光学特性研究 文献链接：http://qikan.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=663510772&from=Qikan_Search_Index 作者：罗海瀚 蔡清元 李耀鹏 刘定权 作者单位：中国科学院上海技术物理研究所 摘要：二氧化硅（SiO2）是一种重要的光学薄膜材料，通常采用电子束蒸发辅以离子束轰击的方式沉积，但在某些情况下，不能借用氧离子束的轰击。着重研究了不同沉积温度下无离子源辅助制备的二氧化硅薄膜的光学特性。通过直接在线的光学监控方式，获得薄膜生长过程的透射率曲线，并得到薄膜在真空中的折射率。采用真空在线光谱扫描和大气中离线的光谱扫描，结合光度法拟合得到薄膜折射率。结果表明由于基片温度的变化，二氧化硅薄膜的折射率会随着薄膜的厚度而改变，随着沉积温度的升高而变大，折射率值在1.34～1.41之间。 Silicon dioxide （SiO2） is a kind of important material of optical thin film. Usually the SiO2 thin films are prepared by electron beam deposition method with ion beam assisted deposition. But in some cases, we can not use the oxygen ion beam assisted bombardment. The research of the SiO2 films which are prepared at different deposition temperatures without ion beam assisted deposition. Through direct online optical monitoring mode, the growth process monitoring curves and the transmittance curves are obtained, the film refractive index in vacuum is calculated. Using the spectral scanning in vacuum online and in atmosphere offline, fitting the film refractive index by spectrophotometric. The results show that due to the substrate temperature′s change, the refractive index of the SiO2 thin film changes with the film thickness, and the refractive index increases with the temperature. The value is between 1.34～1.41. 3.用电子束真空蒸镀法将二氧化锆和二氧化硅透光保护膜镀在玻璃上 链接：http://www.cnki.com.cn/Article/CJFDTotal-GDGC197802009.htm 作者：刘铁生 摘要：用电子束真空镀膜法在加热到300℃的衬底上镀制了双层1/4波长ZrO_2—SiO_2和单层SiO_2薄膜,大大提高了玻璃的透过率(τ_(π2x)～98÷99％),并在40℃,相对湿度达80％和周期降露的条件下可提供良好的防蚀性能。此种涂层可用来保护不稳定玻璃免受潮湿空气的腐蚀,亦可用来制备各种透光膜 4.SiO_2薄膜斜角蒸镀工艺研究 链接：https://xueshu.baidu.com/usercenter/paper/show?paperid=07e029a5c53d8af8b115f428a5567a51&site=xueshu_se 作者：曹一鸣，卫红，王小辉... 摘要：利用斜角蒸镀工艺镀制SiO2薄膜是获得低折射率薄膜的一个有效方法。通过电子束蒸发镀膜方式,利用自制的斜角蒸镀装置,研究了SiO2材料在斜角蒸镀工艺中薄膜倾斜角度与沉积角度的关系,薄膜沉积厚度与设定厚度的关系,薄膜折射率与沉积角度的关系。实验表明利用斜角蒸镀工艺镀制低折射率薄膜是可行的。实验得到了折射率为1.10的SiO2薄膜,并得到了重要的SiO2的折射率与沉积角度关系曲线。 5.有机玻璃基材表面电子束蒸镀铬-铝-二氧化硅薄膜及其性能研究 链接：http://qikan.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=28336976 作者：桑利军 付亚波 张跃飞 陈强 作者单位：北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室 摘要：采用电子束蒸镀的方法，以有机玻璃为基材，在其表面蒸镀铬过渡层，再蒸镀铝，最后蒸镀保护层二氧化硅。实验结果表明：增加铬过渡层的样品，铝膜结合的非常牢固，附着力得到很大的提高。和未蒸镀二氧化硅保护层的样品进行耐腐蚀性测试对比，发现二氧化硅薄膜具有很好的保护性，铝膜在10％的碱性溶液中完好无损；而没镀二氧化硅保护层的样品，铝膜很快溶解。试验结果表明，采用电子束蒸发技术，在使用合适的工艺参数下，可以在有机玻璃表面制备附着力好、耐腐蚀的高反射铝膜。 The chromium, aluminum and silicon dioxide layers were sequentially deposited on the PMMA （polymethylmethacrylate） glass as substrate by electron beam evaporation process. The results showed that the samples with Cr transition layer improve greatly the adhesion of A1 in comparison with the samples without Cr layer. The corrosion resistance test results showed that the SiO2 layer deposited on A1 layer enables A1 layer to have higher anti-corrosion property in comparison with that no SiO2 layer deposited. It was proved that the A1 layer with SiO2 layer deposited on it can keep intact in 10% alkaline solution but will rapidly dissolved in alkali solution if no SiO2 layer deposited on it. All the results revealed that the highly adhensive anticorrosive A1 thin films with high reflectivity are available by electron beam evaporation with appropriate process parameters chosen. 蒂姆（北京）新材料科技有限公司 上一篇： 单质块材
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