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其他化合物靶材

2020-06-12 14:16浏览数:146
蒂姆(北京)新材料科技有限公司可提供多种成分、多种尺寸、多种工艺化合物靶材。
常用参数:
靶材纯度:99.99%
制备工艺:热等静压、常温烧结等
靶材形态:平面靶、多弧靶、台阶靶、异形靶
圆靶尺寸:φ25.4*3mm、φ50*3mm、φ50.8*4mm、φ60*3mm、φ76.2*3mm、φ80*4mm、φ101.6*5mm、φ152.4*6mm 尺寸可定制
方靶尺寸:50*50*3mm、100*100*4mm、300*300*5mm 尺寸可定制
绑定服务:陶瓷靶材亦可提供铜背靶铟焊绑定服务,提高陶瓷靶材导电导热性,提高使用效率

包装方式:真空包装


化学式品名纯度(%)致密度适用设备
BN氮化硼 靶材2N5>80%磁控溅射设备
AlN氮化铝 靶材2N5>80%磁控溅射设备
Si3N4氮化硅 靶材2N5>80%磁控溅射设备
TiN氮化钛 靶材2N5>80%磁控溅射设备
TaN氮化钽 靶材2N5>80%磁控溅射设备
ZnS硫化锌4N>80%磁控溅射设备
MoS2二硫化钼 靶材4N>80%磁控溅射设备
SnS2二硫化锡 靶材4N>80%磁控溅射设备
WS2二硫化钨 靶材4N>80%磁控溅射设备
CdS硫化镉 靶材4N>80%磁控溅射设备
B4C碳化硼 靶材2N5>80%磁控溅射设备
HfC碳化铪 靶材2N5>80%磁控溅射设备
WC碳化钨 靶材2N5>80%磁控溅射设备
Mo2C碳化钼 靶材2N5>80%磁控溅射设备
AlB2硼化铝 靶材2N5>80%磁控溅射设备
TiC碳化钛 靶材2N5>80%磁控溅射设备
BC碳化硼 靶材2N5>80%磁控溅射设备
SiC碳化硅 靶材2N5>80%磁控溅射设备
LiTiO3钛酸锂 靶材4N>80%磁控溅射设备
LiTaO3钽酸锂 靶材4N>80%磁控溅射设备
GST225锗锑碲 靶材4N>80%磁控溅射设备
Sb2S3硫化锑 靶材3N>80%磁控溅射设备
In2Se3硒化铟 靶材4N>80%磁控溅射设备
InSe硒化铟 靶材4N>80%磁控溅射设备
LiTiO3钛酸锂 靶材3N>80%磁控溅射设备
LiTaO3钽酸锂 靶材3N>80%磁控溅射设备
LiCoO2钴酸锂 靶材3N>80%磁控溅射设备
SrTiO3钛酸锶 靶材4N>80%磁控溅射设备
BaTiO3钛酸钡 靶材3N5>80%磁控溅射设备
Li0.35La0.57TiO3钛酸镧锂 靶材4N>80%磁控溅射设备
(Ca10(PO4)6(OH)2)羟基磷灰石 靶材4N>80%磁控溅射设备
Y3Fe5O12YIG 靶材4N>80%磁控溅射设备
LaF3氟化镧 靶材3N>80%磁控溅射设备
NaF氟化钠 靶材4N>80%磁控溅射设备
CaF2氟化钙 靶材4N>80%磁控溅射设备
BaF2氟化钡 靶材4N>80%磁控溅射设备
MgF2氟化镁 靶材4N>80%磁控溅射设备
KF氟化钾 靶材4N>80%磁控溅射设备
CeF3氟化铈 靶材4N>80%磁控溅射设备
SrF3氟化锶 靶材4N>80%磁控溅射设备
NdF3氟化钕 靶材4N>80%磁控溅射设备
DyF3氟化镝 靶材4N>80%磁控溅射设备
SmF3氟化钐 靶材4N>80%磁控溅射设备
YbF3氟化镱 靶材4N>80%磁控溅射设备
YF3氟化钇 靶材4N>80%磁控溅射设备
ErF3氟化饵 靶材4N>80%磁控溅射设备
ZnSe硒化锌 靶材4N>80%磁控溅射设备
蒂姆(北京)新材料科技有限公司
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