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1、氧化铝基本性能参数2、镀氧化铝膜的特点3、镀氧化铝膜的方法 镀氧化铝膜的方法主要分为物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD），其中物理气相沉积主要有蒸镀法和磁控溅射法，蒸镀法根据加热方式不同分为电阻加热、高频感应加热和电子束加热三种，其中电阻加热的温度可达1600℃，而电子束和高频感应加热可达3000℃。磁控溅射法相比于蒸镀法，其膜层与基材结合力强、膜层致密性及均匀性好。化学气相沉...

锗的应用简介锗是重要的半导体材料，在半导体、航空航天测控、核物理探测、光纤通讯、红外光学、太阳能电池、化学催化剂、生物医学等领域都有广泛而重要的应用。根据美国地质调查局数据显示(2015)全球锗终端用户所占比例如下：纤维光纤30%；红外光纤20%；聚合催化剂20%；电子和太阳能器件15%和其他(荧光粉、冶金、和化疗)15%。光纤掺锗光纤具有容量大、光损小、色散低、传输距离长及不受环境干扰等优...

真空设备检漏注意事项一、真空设备设计中的注意事项1、根据设备的工艺要求，确定真空设备的总的最大允许漏率，并依据这一总漏率确定各组成部件的最大允许漏率。　　2、根据设备的最大允许漏率等指标，在设计阶段就初步确定将要采用的检漏方法，并将其作为指导调试验收的基本原则之一。　　3、根据设备或部件的最大允许漏率指标，决定设备的密封、连接方式和总体加工精度，以及何种动密封形式能够满足要求。如，法兰采用金...